光照设备、结晶设备、结晶方法和器件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510091163.6

申请日：

2005-08-09

公开(公告)号：

CN1734336A

公开(公告)日：

2006-02-15

发明(设计)人：

谷口幸夫松村正清

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G02F11368

IPC分类号：

G02F101 H01L29786

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王英

法律状态：

专利权的视为放弃

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-12-08	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101021082796 IPC(主分类):H01L 21/268 专利申请号:2005100911636 放弃生效日:20060215
2007-07-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-02-15	公开	公开

共 50 条

[1]

光照设备、结晶设备、结晶方法、半导体器件及光调制元件 [P].

松村正清 ;

谷口幸夫 .

中国专利 :CN1763910A ,2006-04-26

[2]

光照射装置、光照射方法、结晶化装置、结晶化方法、以及半导体器件 [P].

谷口幸夫 .

中国专利 :CN101038862A ,2007-09-19

[3]

激光结晶装置和结晶方法 [P].

高见芳夫 ;

田口龙大 .

中国专利 :CN1983511A ,2007-06-20

[4]

光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件 [P].

谷口幸夫 .

中国专利 :CN101359101A ,2009-02-04

[5]

光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件 [P].

谷口幸夫 .

中国专利 :CN1658373A ,2005-08-24

[6]

结晶装置以及结晶方法 [P].

秋田典孝 ;

高见芳夫 .

中国专利 :CN101312117B ,2008-11-26

[7]

结晶设备、结晶方法、器件、光学调制元件和显示装置 [P].

谷口幸夫 ;

十文字正之 ;

小川裕之 .

中国专利 :CN1691275A ,2005-11-02

[8]

结晶装置和结晶方法 [P].

谷口幸夫 ;

松村正清 .

中国专利 :CN1498989A ,2004-05-26

[9]

结晶装置和结晶方法 [P].

谷口幸夫 ;

松村正清 .

中国专利 :CN101101870A ,2008-01-09

[10]

光照射和结晶的装置及方法，半导体器件和光调制元件 [P].

谷口幸夫 ;

松村正清 .

中国专利 :CN101042984A ,2007-09-26

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