二酮吡咯并吡咯颜料的制备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01121460.0

申请日：

2001-06-07

公开(公告)号：

CN1281688C

公开(公告)日：

2001-12-26

发明(设计)人：

U·尼克尔 L·安弗多本 J·威伯 E·迪茨 J·帕茨拉夫

申请人：

申请人地址：

瑞士穆腾茨

IPC主分类号：

C09B5700

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

林柏楠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-10-25	授权	授权
2009-08-12	专利权的终止(未缴年费专利权终止)	专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2001-12-26	公开	公开
2003-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

二酮吡咯并吡咯颜料组合物 [P].

O·沃尔奎斯特 ;

I·施勒德 ;

G·伍登 .

中国专利 :CN1146469A ,1997-04-02

[2]

新的二酮基吡咯并吡咯颜料 [P].

F·W·格林 ;

H·J·梅茨 ;

J·韦伯 ;

A·瓦克尔 .

中国专利 :CN1665816A ,2005-09-07

[3]

基于二酮基吡咯并吡咯的颜料制剂 [P].

M·甘朔 ;

J·赖希瓦根 ;

T·赖彭 ;

J·佩措尔德 .

中国专利 :CN101631835B ,2010-01-20

[4]

制备二酮吡咯并吡咯的方法 [P].

C·莫尔顿 ;

D·M·史密斯 ;

V·鲁菲厄克斯 .

中国专利 :CN1553912A ,2004-12-08

[5]

二氯二酮吡咯并吡咯颜料、含有所述二氯二酮吡咯并吡咯颜料的着色材料分散体及其制备方法 [P].

中平真一 ;

两角一真 ;

佐佐木大辅 ;

菊池涉 ;

神田博美 ;

石坂壮二 ;

兵藤知义 ;

金子祐士 ;

石地洋平 .

中国专利 :CN102597126B ,2012-07-18

[6]

细分的二酮基吡咯并吡咯颜料的直接制备方法 [P].

M·甘朔 .

中国专利 :CN101616999B ,2009-12-30

[7]

荧光二酮吡咯并吡咯 [P].

H·亚马莫托 ;

N·丹 ;

O·瓦尔奎斯特 .

中国专利 :CN101279975A ,2008-10-08

[8]

具有高色度的二酮基吡咯并吡咯颜料 [P].

Ｇ·伍登 ;

Ｉ·施勒德 ;

Ｏ·沃尔奎斯特 .

中国专利 :CN1066766C ,1995-12-13

[9]

絮凝稳定的二酮基吡咯并吡咯颜料制剂 [P].

J·派特佐尔德 ;

C·普吕格 .

中国专利 :CN102131876A ,2011-07-20

[10]

二酮基吡咯并吡咯 [P].

F·贝布勒尔 .

中国专利 :CN1297003A ,2001-05-30

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