影响因素分析方法及装置、存储介质及电子设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111283180.5

申请日：

2021-11-01

公开(公告)号：

CN113988065A

公开(公告)日：

2022-01-28

发明(设计)人：

包航宇杨晓勤李世宁孙永敬

申请人：

申请人地址：

100033 北京市西城区金融大街25号

IPC主分类号：

G06F40284

IPC分类号：

G06F4044 G06F1718 G06Q1006

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

张倩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-28	公开	公开
2022-02-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 40/284 申请日:20211101

共 50 条

[1]

设备运用影响因素分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

刘鹏鹏 ;

王岩磊 ;

邓建辉 ;

黄金娥 ;

张扬 .

中国专利 :CN118965219A ,2024-11-15

[2]

碳排放影响因素的分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

齐欣 ;

张志峰 ;

刘志 .

中国专利 :CN118035681A ,2024-05-14

[3]

业务影响分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

吴丽娜 ;

王小龙 ;

赵鹏 .

中国专利 :CN109522325A ,2019-03-26

[4]

政策关联影响分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

李秋丹 ;

钱昊达 ;

王林子 ;

彭鑫 ;

曾大军 .

中国专利 :CN114357111A ,2022-04-15

[5]

人才流动影响因素辨识方法、装置、存储介质及电子设备 [P].

李博 ;

潘琳 ;

叶安琪 ;

朱仁崎 ;

姚锋 ;

张忠山 ;

闫俊刚 ;

潘晓庆 ;

冯冠 ;

胡丹妮 .

中国专利 :CN120996328A ,2025-11-21

[6]

晶圆良率影响因素分析方法和装置、电子设备与存储介质 [P].

李钢江 ;

张悠慧 .

中国专利 :CN119886564B ,2025-11-04

[7]

晶圆良率影响因素分析方法和装置、电子设备与存储介质 [P].

李钢江 ;

张悠慧 .

中国专利 :CN119886564A ,2025-04-25

[8]

充电设施故障因素分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

杨麒峰 ;

李俊达 ;

何溪溪 ;

赵静 ;

李金成 ;

杨德义 ;

周正炼 ;

王天安 ;

吴全才 ;

张玎一 .

中国专利 :CN120833139A ,2025-10-24

[9]

储层可压裂性影响因素分析方法、装置、电子设备及介质 [P].

刘百红 ;

刘卫华 ;

郑四连 .

中国专利 :CN120119952A ,2025-06-10

[10]

一种影响分析方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

管先由 ;

杨小刚 ;

田添 ;

顾杰超 ;

靳志波 .

中国专利 :CN120611483A ,2025-09-09

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