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改良的平面抛光机上抛头
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201220393626.X
申请日：
2012-08-09
公开(公告)号：
CN202780811U
公开(公告)日：
2013-03-13
发明(设计)人：
吴海铭
申请人：
申请人地址：
中国台湾桃园县平镇市新德街291巷14号
IPC主分类号：
B24B41047
IPC分类号：
代理机构：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019
代理人：
寿宁;张华辉
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2013-03-13 | 授权 | 授权 |
| 2021-07-23 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 41/047 申请日:20120809 授权公告日:20130313 终止日期:20200809 |