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半自动阻焊曝光机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121776738.9
申请日：
2021-08-02
公开(公告)号：
CN215449885U
公开(公告)日：
2022-01-07
发明(设计)人：
张方德
申请人：
申请人地址：
325000 浙江省温州市温州经济技术开发区温州大道700号主楼一层、三层
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G03F900
H05K328
代理机构：
温州金瓯专利事务所(普通合伙) 33237
代理人：
陈晖
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-07 | 授权 | 授权 |