透明导电元件及其制造方法、输入装置、电子设备以及透明导电层的加工方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380006590.2

申请日：

2013-01-24

公开(公告)号：

CN104054140A

公开(公告)日：

2014-09-17

发明(设计)人：

井上纯一水野干久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01B514

IPC分类号：

B32B314 B32B702 G06F3041 H01B1300

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

何欣亭;王忠忠

法律状态：

专利权的视为放弃

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-10	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101718558362 IPC(主分类):H01B 5/14 专利申请号:2013800065902 放弃生效日:20170510
2014-09-17	公开	公开
2014-10-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587787103 IPC(主分类):H01B 5/14 专利申请号:2013800065902 申请日:20130124

共 50 条

[1]

透明导电元件及其制造方法、输入装置、电子设备以及薄膜的构图方法 [P].

井上纯一 ;

福田智男 .

中国专利 :CN104054139A ,2014-09-17

[2]

透明导电膜及其制造方法、信息输入装置以及电子设备 [P].

岩田亮介 ;

石井康久 ;

水野干久 ;

原忍 .

中国专利 :CN105960685B ,2016-09-21

[3]

透明导电性元件、输入装置、电子设备及透明导电性元件制作用母盘 [P].

水野干久 ;

井上纯一 ;

金子直人 .

中国专利 :CN103748537A ,2014-04-23

[4]

透明导电元件和透明导电元件制造方法 [P].

金子直人 ;

水野干久 .

中国专利 :CN102737755A ,2012-10-17

[5]

透明导电性元件、输入装置、电子设备以及透明导电性元件制作用原盘 [P].

高桥秀俊 ;

水野干久 ;

石渡正之 .

中国专利 :CN103460160A ,2013-12-18

[6]

导电元件及其制造方法、输入装置和电子设备 [P].

佐藤成 ;

高桥健 ;

桥本和也 .

中国专利 :CN108027677B ,2018-05-11

[7]

透明导电元件、输入装置以及显示装置 [P].

林部和弥 ;

梶谷俊一 ;

村本穣 .

中国专利 :CN102804110A ,2012-11-28

[8]

透明导电层合体及其制造方法 [P].

大井亮 ;

渡边修 ;

本远和范 ;

西野秀和 ;

佐藤谦一 .

中国专利 :CN102822092B ,2012-12-12

[9]

透明导电层叠层用膜、其制造方法、以及透明导电膜 [P].

森田亘 ;

原务 ;

武藤豪志 ;

近藤健 .

中国专利 :CN108349216A ,2018-07-31

[10]

制造透明导电层的方法和由该方法制造的透明导电层 [P].

郑光春 ;

赵显南 ;

金南挺 ;

李仁淑 ;

崔静娥 ;

金水毕 .

中国专利 :CN103380466B ,2013-10-30

← 1 2 3 4 5 →