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一种用于曝光机的新型光源
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201721163573.1
申请日：
2017-09-12
公开(公告)号：
CN207216270U
公开(公告)日：
2018-04-10
发明(设计)人：
刘芳军
申请人：
申请人地址：
225000 江苏省扬州市邗江区吉安南路金荣科技园4-102
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
南京常青藤知识产权代理有限公司 32286
代理人：
黄胡生
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2018-04-10 | 授权 | 授权 |
| 2021-04-30 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20210420 变更事项:专利权人 变更前权利人:北海惠科光电技术有限公司 变更后权利人:北海惠科半导体科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室 变更后权利人:536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司16幢三楼301室 |