一种厄米非均匀关联光束的产生装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202021552362.9

申请日：

2020-07-30

公开(公告)号：

CN212229350U

公开(公告)日：

2020-12-25

发明(设计)人：

余佳益林蓉刘永雷高雅茹蔡阳健

申请人：

申请人地址：

250014 山东省济南市文化东路88号

IPC主分类号：

G02B2742

IPC分类号：

G02B2728 G02B532 H04B1011

代理机构：

济南圣达知识产权代理有限公司 37221

代理人：

祖之强

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 27/42 申请日:20200730 授权公告日:20201225 终止日期:20210730
2020-12-25	授权	授权

共 50 条

[1]

一种厄米非均匀关联光束的产生装置及方法 [P].

余佳益 ;

林蓉 ;

刘永雷 ;

高雅茹 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN111983815A ,2020-11-24

[2]

一种矢量非均匀厄米关联光束的产生装置 [P].

余佳益 ;

林蓉 ;

刘永雷 ;

高雅茹 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN212391678U ,2021-01-22

[3]

一种矢量非均匀厄米关联光束的产生装置及方法 [P].

余佳益 ;

林蓉 ;

刘永雷 ;

高雅茹 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN111983816A ,2020-11-24

[4]

一种矢量扭曲厄米高斯关联光束的产生装置及方法 [P].

林蓉 ;

刘永雷 ;

王飞 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN120447217A ,2025-08-08

[5]

一种产生矢量非均匀关联光束的系统及方法 [P].

朱新蕾 ;

余佳益 ;

王飞 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN112904580A ,2021-06-04

[6]

一种产生普适非均匀关联光束的装置 [P].

余佳益 ;

朱新蕾 ;

刘永雷 ;

王飞 ;

蔡阳健 .

中国专利 :CN111399237B ,2020-07-10

[7]

厄米-高斯激光束产生装置 [P].

杨晶 ;

李雪鹏 ;

杨天利 ;

王小军 ;

彭钦军 .

中国专利 :CN116247496B ,2025-12-02

[8]

产生第二阶厄米复变函数高斯光束的装置 [P].

黄加耀 ;

邓富 ;

余伟浩 ;

赵瑞璜 ;

柯博 ;

廖志强 ;

邓冬梅 .

中国专利 :CN205281028U ,2016-06-01

[9]

产生第二阶厄米复变函数高斯光束的方法及装置 [P].

黄加耀 ;

邓富 ;

余伟浩 ;

赵瑞璜 ;

柯博 ;

廖志强 ;

邓冬梅 .

中国专利 :CN105467608A ,2016-04-06

[10]

一种在抛物折射率介质中产生厄米高斯涡旋光束的系统 [P].

赵佳佳 ;

丘蕙欣 ;

吴攸 ;

林泽嘉 ;

傅新铭 ;

陈凯慧 ;

邓冬梅 .

中国专利 :CN214540253U ,2021-10-29

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