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一种机械运动轨迹下压机构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201621082332.X
申请日：
2016-09-26
公开(公告)号：
CN206200855U
公开(公告)日：
2017-05-31
发明(设计)人：
孙勇
申请人：
申请人地址：
518000 广东省深圳市龙华新区油松路昊创工业厂区3#厂房
IPC主分类号：
B25B2700
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-05-31 | 授权 | 授权 |