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反应腔室及半导体加工设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201610312544.0
申请日：
2016-05-12
公开(公告)号：
CN107369602B
公开(公告)日：
2017-11-21
发明(设计)人：
李兴存
申请人：
申请人地址：
100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
H01J3732
IPC分类号：
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;张天舒
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-11-21 | 公开 | 公开 |
| 2017-12-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160512 |
| 2019-02-19 | 授权 | 授权 |