高折射率聚硅氧烷及其制备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910168034.0

申请日：

2002-07-18

公开(公告)号：

CN101633735B

公开(公告)日：

2010-01-27

发明(设计)人：

P·切瓦里尔区端力

申请人：

申请人地址：

美国密执安

IPC主分类号：

C08G77385

IPC分类号：

C08G7724 C08G7706 C07F712

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

张钦

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08G 77/385 申请日:20020718 授权公告日:20110720 终止日期:20200718
2010-03-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-07-20	授权	授权
2010-01-27	公开	公开
2019-03-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C08G 77/385 变更事项:专利权人变更前:陶氏康宁公司变更后:美国陶氏有机硅公司变更事项:地址变更前:美国密执安变更后:美国密歇根州

共 50 条

[1]

高折射率聚硅氧烷及其制备 [P].

P·切瓦里尔 ;

区端力 .

中国专利 :CN1636031A ,2005-07-06

[2]

高折射率聚硅氧烷预聚物 [P].

赖有进 ;

埃德蒙·T.·奎因 ;

刘小军 ;

埃德蒙·P.·梅齐亚尔兹三世 .

中国专利 :CN1759147A ,2006-04-12

[3]

高折射率硅氧烷 [P].

拉吉夫·斯里瓦斯塔瓦 ;

道格拉斯·迈克尔·杜克斯 .

中国专利 :CN105263990B ,2016-01-20

[4]

高折射率PU改性聚硅氧烷的制备方法 [P].

刘珠 ;

刘晓暄 ;

丁小卫 ;

杨先君 ;

张普源 .

中国专利 :CN110194829B ,2019-09-03

[5]

用于高折射率材料的聚杂硅氧烷 [P].

尼子雅明 ;

伊藤真树 ;

刘南国 ;

S·K·米利 ;

R·施密特 .

中国专利 :CN103282801A ,2013-09-04

[6]

两亲性的高折射率有机聚硅氧烷 [P].

A·K·罗伊 ;

M·科菲 .

中国专利 :CN103403067A ,2013-11-20

[7]

一种高折射率的有机基聚硅氧烷组合物 [P].

刘彦军 ;

程思聪 ;

宋晓云 ;

张伟 .

中国专利 :CN103881392A ,2014-06-25

[8]

具有高折射率的聚硅氧树脂组合物 [P].

田珮 ;

李旭修 ;

张佩君 .

中国专利 :CN102453327A ,2012-05-16

[9]

具有高折射率的两亲性有机聚硅氧烷树状大分子 [P].

A·K·罗伊 ;

M·L·科菲 ;

A·米特拉 .

中国专利 :CN104981502A ,2015-10-14

[10]

一种低折射率聚硅氧烷树脂合成工艺 [P].

宋亚 ;

李思宇 ;

谷宇航 ;

王利新 .

中国专利 :CN119490637A ,2025-02-21

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