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一种电镀中改善均匀性的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810037111.8
申请日
:
2018-01-15
公开(公告)号
:
CN108315782A
公开(公告)日
:
2018-07-24
发明(设计)人
:
袁晋
申请人
:
申请人地址
:
343800 江西省吉安市万安县工业园二期(江西合力泰万安分公司实训基地B栋)
IPC主分类号
:
C25D338
IPC分类号
:
C25D510
C25D2112
代理机构
:
宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙) 33228
代理人
:
黄宗熊
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-08-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/38 申请日:20180115
2018-07-24
公开
公开
2020-11-20
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C25D 3/38 申请公布日:20180724
共 50 条
[1]
改善电镀薄膜均匀性的电镀方法
[P].
庄严
论文数:
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0
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庄严
;
黄鸿仪
论文数:
0
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黄鸿仪
.
中国专利
:CN100577890C
,2006-10-18
[2]
一种改善电镀均匀性的电镀装置和电镀方法
[P].
史蒂文·贺·汪
论文数:
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0
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
史蒂文·贺·汪
;
王铮
论文数:
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0
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
王铮
;
印琼玲
论文数:
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
印琼玲
;
韦永雁
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
韦永雁
;
徐亚南
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0
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
徐亚南
;
黄亚丽
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机构:
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
新阳硅密(上海)半导体技术有限公司
黄亚丽
.
中国专利
:CN119859837A
,2025-04-22
[3]
改善电镀薄膜均匀性的装置及方法
[P].
孟昭生
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孟昭生
;
薛亚楠
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薛亚楠
;
贾玉杰
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贾玉杰
.
中国专利
:CN113493920B
,2021-10-12
[4]
一种线路板电镀制程均匀性改善的电镀设备
[P].
黄治国
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黄治国
;
雷振峰
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雷振峰
;
柳会平
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柳会平
;
王云
论文数:
0
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0
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王云
.
中国专利
:CN216237330U
,2022-04-08
[5]
一种线路板电镀制程均匀性改善的电镀设备
[P].
黄治国
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黄治国
;
雷振峰
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雷振峰
;
柳会平
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柳会平
;
王云
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王云
.
中国专利
:CN113549985A
,2021-10-26
[6]
一种改善VCP电镀均匀性的挂架
[P].
吴樟友
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吴樟友
;
韩焱林
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韩焱林
;
周海光
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0
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周海光
.
中国专利
:CN206553644U
,2017-10-13
[7]
一种提高电镀均匀性的电镀设备
[P].
徐海文
论文数:
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0
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0
徐海文
.
中国专利
:CN216688407U
,2022-06-07
[8]
一种改善电镀铜厚度均匀性的电镀挂具
[P].
王强
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王强
;
唐莉萍
论文数:
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唐莉萍
;
周大伟
论文数:
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周大伟
;
邹冠生
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邹冠生
;
徐缓
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0
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徐缓
.
中国专利
:CN213086159U
,2021-04-30
[9]
提高电镀均匀性的方法
[P].
程凡雄
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程凡雄
;
宋景勇
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0
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宋景勇
;
黄伟
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0
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黄伟
.
中国专利
:CN101054701A
,2007-10-17
[10]
一种改善电镀均匀性的太阳能电池片电镀设备
[P].
张尧
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张尧
;
孟津
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孟津
;
张斌
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张斌
;
邢国强
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邢国强
;
马杰华
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马杰华
.
中国专利
:CN202246943U
,2012-05-30
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