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用于处理含卤化物溶液的载银卤化物去除树脂
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680037308.0
申请日
:
2016-06-22
公开(公告)号
:
CN107835714A
公开(公告)日
:
2018-03-23
发明(设计)人
:
D·L·拉马奇
N·C·哈利南
D·F·怀特
申请人
:
申请人地址
:
美国德克萨斯州
IPC主分类号
:
B01J4104
IPC分类号
:
B01J4114
B01J4706
C07C5147
C07C5112
C07C5308
代理机构
:
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280
代理人
:
徐舒
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-03-23
公开
公开
2018-04-20
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 41/04 申请日:20160622
2021-11-19
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B01J 41/04 申请公布日:20180323
共 50 条
[1]
卤化物材料的制造方法及卤化物材料
[P].
古贺英一
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
松下知识产权经营株式会社
松下知识产权经营株式会社
古贺英一
.
日本专利
:CN118829612A
,2024-10-22
[2]
烧结矿卤化物溶液喷淋方法
[P].
黎均红
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黎均红
;
赵仕清
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赵仕清
;
魏功亮
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魏功亮
;
谭海波
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谭海波
;
宋明明
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宋明明
;
黄岗
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黄岗
;
刘晶波
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刘晶波
;
张晓林
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张晓林
.
中国专利
:CN105603184A
,2016-05-25
[3]
茂金属-卤化物
[P].
C·宾格尔
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C·宾格尔
;
H·-H·布林青格
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H·-H·布林青格
;
H·-R·-H·达姆劳
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H·-R·-H·达姆劳
;
P·米勒
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P·米勒
;
J·苏姆
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J·苏姆
.
中国专利
:CN1289337A
,2001-03-28
[4]
氧卤化物前驱物
[P].
D·M·埃默特
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
D·M·埃默特
;
R·小赖特
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
R·小赖特
;
T·H·鲍姆
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
T·H·鲍姆
;
B·C·亨德里克斯
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
B·C·亨德里克斯
.
美国专利
:CN114174216B
,2024-08-30
[5]
卤化物浓缩装置
[P].
谷开峰
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谷开峰
;
闻景超
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闻景超
;
王超
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王超
.
中国专利
:CN104784945A
,2015-07-22
[6]
氧卤化物前驱物
[P].
D·M·埃默特
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D·M·埃默特
;
R·小赖特
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R·小赖特
;
T·H·鲍姆
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T·H·鲍姆
;
B·C·亨德里克斯
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0
B·C·亨德里克斯
.
中国专利
:CN114174216A
,2022-03-11
[7]
氧卤化物前驱物
[P].
D·M·埃默特
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0
机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
D·M·埃默特
;
R·小赖特
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
R·小赖特
;
T·H·鲍姆
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
T·H·鲍姆
;
B·C·亨德里克斯
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机构:
恩特格里斯公司
恩特格里斯公司
B·C·亨德里克斯
.
美国专利
:CN119079932A
,2024-12-06
[8]
卤化物的制造方法
[P].
久保敬
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0
久保敬
;
西尾勇祐
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西尾勇祐
;
酒井章裕
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酒井章裕
;
宫崎晃畅
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0
宫崎晃畅
.
中国专利
:CN112739653A
,2021-04-30
[9]
卤化物的制造方法
[P].
久保敬
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久保敬
;
西尾勇祐
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西尾勇祐
;
酒井章裕
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酒井章裕
;
宫崎晃畅
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宫崎晃畅
.
中国专利
:CN112789242A
,2021-05-11
[10]
卤化物的制造方法
[P].
久保敬
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久保敬
;
西尾勇祐
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西尾勇祐
;
上野航辉
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上野航辉
;
酒井章裕
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酒井章裕
;
宫崎晃畅
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宫崎晃畅
.
中国专利
:CN112771627A
,2021-05-07
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