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一种内部电流均匀分布的酸铜槽
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020536348.3
申请日
:
2020-04-13
公开(公告)号
:
CN212077184U
公开(公告)日
:
2020-12-04
发明(设计)人
:
吉红兵
严华平
戴峰
申请人
:
申请人地址
:
225412 江苏省泰州市泰兴市元竹镇工业集聚区园中路
IPC主分类号
:
C25D1702
IPC分类号
:
C25D2110
C25D2102
C25D338
代理机构
:
泰兴市致泽专利代理事务所(普通合伙) 32387
代理人
:
张斌
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-04
授权
授权
共 50 条
[1]
一种电流均匀分布的LED晶片
[P].
樊邦扬
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樊邦扬
;
叶国光
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叶国光
;
梁伏波
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梁伏波
;
杨小东
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杨小东
;
孔利平
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孔利平
.
中国专利
:CN201985157U
,2011-09-21
[2]
一种均匀分布的酸解分布器
[P].
关学均
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关学均
;
雷杨
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雷杨
;
周正刚
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周正刚
.
中国专利
:CN213699886U
,2021-07-16
[3]
一种电流均匀分布的LED晶片
[P].
樊邦扬
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樊邦扬
.
中国专利
:CN102142499A
,2011-08-03
[4]
一种基于电镀的尖端电流均匀分布装置
[P].
黄月坤
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黄月坤
.
中国专利
:CN210215605U
,2020-03-31
[5]
多极电解的极板电流均匀分布结构
[P].
郭龙
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郭龙
;
卢世刚
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卢世刚
;
杨娟玉
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杨娟玉
;
余章龙
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余章龙
.
中国专利
:CN208008913U
,2018-10-26
[6]
一种均匀分布的布酸分布器装置
[P].
王先领
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王先领
;
许留保
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许留保
;
玄先路
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玄先路
.
中国专利
:CN202778213U
,2013-03-13
[7]
一种电荷均匀分布的基板电镀槽
[P].
李彬
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李彬
.
中国专利
:CN210886283U
,2020-06-30
[8]
电流分布均匀的电镀槽
[P].
马晓明
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马晓明
.
中国专利
:CN203728948U
,2014-07-23
[9]
电力线均匀分布的电镀槽
[P].
陆金龙
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陆金龙
;
钱国辉
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钱国辉
.
中国专利
:CN201574207U
,2010-09-08
[10]
一种均匀分布的槽盘式液体再分布器
[P].
周军
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周军
;
朱有伟
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朱有伟
.
中国专利
:CN216170051U
,2022-04-05
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