含有脲二酮基团的低单体含量多异氰酸酯

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200310120121.1

申请日：

2003-12-05

公开(公告)号：

CN1511858A

公开(公告)日：

2004-07-14

发明(设计)人：

F·里希特 R·哈尔帕亚普 H·J·拉亚斯 A·赫金

申请人：

申请人地址：

联邦德国莱沃库森

IPC主分类号：

C08G1879

IPC分类号：

C08G1802 C07C26514 C09D17504 B01J3102

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

赵苏林;庞立志

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-08-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2004-07-14	公开	公开

共 50 条

[1]

含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备 [P].

F·里希特 ;

R·哈尔帕亚普 ;

H·-J·拉尔斯 ;

A·赫金 .

中国专利 :CN1502605B ,2004-06-09

[2]

含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法及存储稳定的二异氰酸酯单体 [P].

朱智诚 ;

辛光震 ;

王勤隆 ;

刘伟 ;

石滨 ;

尚永华 ;

李海军 ;

王暖程 ;

黎源 .

中国专利 :CN112851908A ,2021-05-28

[3]

含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法 [P].

F·里希特尔 ;

R·哈尔帕尔 ;

H·－J·拉斯 ;

A·赫金 .

中国专利 :CN1660792A ,2005-08-31

[4]

含有脲基甲酸酯基团的多异氰酸酯 [P].

M·马丁-波图格斯 ;

C·约基施 ;

H·沙弗尔 ;

L·土施布莱特 ;

A·M·施泰因布雷歇尔 .

中国专利 :CN101888994B ,2010-11-17

[5]

一种含有脲二酮基团多异氰酸酯的制备方法 [P].

辛光震 ;

刘伟 ;

朱智诚 ;

李海军 ;

张晓鹏 ;

石滨 ;

林成栋 ;

路富有 ;

丰茂英 ;

黎源 .

中国专利 :CN112574388B ,2021-03-30

[6]

一种含有脲二酮基团的多异氰酸酯的制备方法 [P].

朱智诚 ;

石滨 ;

尚永华 ;

严成岳 ;

李晶 ;

刘照 ;

刘伟 ;

李海军 ;

王暖程 ;

黎源 .

中国专利 :CN109761903A ,2019-05-17

[7]

具有低单体二异氰酸酯含量的聚脲组合物 [P].

J·霍尔麦斯 ;

A·汤姆森 ;

S·格鲁夫 ;

M·劳恩德 ;

A·考沃尔德 ;

M·盖特里尔 ;

M·拜恩 .

中国专利 :CN115667340A ,2023-01-31

[8]

具有低单体二异氰酸酯含量的聚脲组合物 [P].

J·霍尔麦斯 ;

A·汤姆森 ;

S·格鲁夫 ;

M·劳恩德 ;

A·考沃尔德 ;

M·盖特里尔 ;

M·拜恩 .

:CN115667340B ,2025-08-19

[9]

色值稳定的含有脲二酮基团的多异氰酸酯及其制备方法 [P].

石滨 ;

尚永华 ;

李晶 ;

丰茂英 ;

迟正伟 ;

严成岳 ;

朱智诚 ;

刘伟 ;

辛光震 ;

黎源 .

中国专利 :CN111040101B ,2020-04-21

[10]

基于含有脲基甲酸酯基团的多异氰酸酯的涂料 [P].

C.瓦姆普雷希特 ;

M.霍曼 .

中国专利 :CN102300893A ,2011-12-28

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