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一种激光功率稳定性增强的目标发射率分布特性测量装置
被引:0
申请号
:
CN202123051491.7
申请日
:
2021-12-07
公开(公告)号
:
CN217006983U
公开(公告)日
:
2022-07-19
发明(设计)人
:
安保林
董伟
宋旭尧
原遵东
赵云龙
卢小丰
申请人
:
申请人地址
:
100013 北京市朝阳区北三环东路18号
IPC主分类号
:
G01N213563
IPC分类号
:
G01N2139
代理机构
:
北京君琅知识产权代理有限公司 16017
代理人
:
唐小晨
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-19
授权
授权
共 50 条
[1]
一种目标发射率分布特性测量装置
[P].
安保林
论文数:
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安保林
;
董伟
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董伟
;
宋旭尧
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宋旭尧
;
原遵东
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原遵东
;
赵云龙
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赵云龙
;
卢小丰
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卢小丰
.
中国专利
:CN114034391A
,2022-02-11
[2]
一种目标发射率分布特性测量装置
[P].
安保林
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机构:
中国计量科学研究院
中国计量科学研究院
安保林
;
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机构:
董伟
;
宋旭尧
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机构:
中国计量科学研究院
中国计量科学研究院
宋旭尧
;
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机构:
原遵东
;
赵云龙
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机构:
中国计量科学研究院
中国计量科学研究院
赵云龙
;
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机构:
卢小丰
.
中国专利
:CN114034391B
,2024-02-02
[3]
一种基于透射式光路的多波长目标发射率分布特性测量装置
[P].
安保林
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安保林
;
董伟
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董伟
;
祝晓轶
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祝晓轶
;
卢小丰
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卢小丰
;
赵云龙
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赵云龙
;
原遵东
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原遵东
.
中国专利
:CN114878000B
,2022-08-09
[4]
一种指向稳定性好的激光测量装置
[P].
刘文军
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机构:
北京光创达光电科技有限公司
北京光创达光电科技有限公司
刘文军
;
刘齐
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机构:
北京光创达光电科技有限公司
北京光创达光电科技有限公司
刘齐
;
文立松
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机构:
北京光创达光电科技有限公司
北京光创达光电科技有限公司
文立松
;
杨真漓
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机构:
北京光创达光电科技有限公司
北京光创达光电科技有限公司
杨真漓
;
徐莉
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机构:
北京光创达光电科技有限公司
北京光创达光电科技有限公司
徐莉
.
中国专利
:CN119291649A
,2025-01-10
[5]
一种表面发射率测量装置
[P].
许铁军
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许铁军
;
姚达毛
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姚达毛
;
韩乐
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韩乐
;
田焜
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田焜
;
张斌
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张斌
.
中国专利
:CN210719419U
,2020-06-09
[6]
一种用于控制激光功率稳定性的装置
[P].
郏杨斌
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郏杨斌
.
中国专利
:CN214506045U
,2021-10-26
[7]
一种导电材料的发射率测量装置
[P].
熊兵
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熊兵
;
李杨
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李杨
;
赵会妮
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赵会妮
;
龚强国
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龚强国
.
中国专利
:CN203479710U
,2014-03-12
[8]
一种材料光谱发射率测量装置
[P].
高水静
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高水静
;
彭雷
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彭雷
.
中国专利
:CN205027658U
,2016-02-10
[9]
一种材料光谱发射率测量装置
[P].
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机构:
李宇航
;
论文数:
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机构:
占春连
.
中国专利
:CN223449794U
,2025-10-17
[10]
一种激光稳定性监控调节装置
[P].
高连丛
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高连丛
;
苏畅
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苏畅
;
陈翠芬
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陈翠芬
;
张雪娟
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张雪娟
;
张梦凡
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张梦凡
.
中国专利
:CN216083291U
,2022-03-18
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