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平面光学元件、传感器元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380052754.5
申请日
:
2013-08-02
公开(公告)号
:
CN104704408B
公开(公告)日
:
2015-06-10
发明(设计)人
:
W·沙德
申请人
:
申请人地址
:
德国慕尼黑
IPC主分类号
:
G02B6138
IPC分类号
:
代理机构
:
广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205
代理人
:
谭英强
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616041049 IPC(主分类):G02B 6/138 专利申请号:2013800527545 申请日:20130802
2018-02-06
授权
授权
2015-06-10
公开
公开
共 50 条
[1]
平面光学元件及其设计方法
[P].
张岩
论文数:
0
引用数:
0
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0
张岩
;
胡丹
论文数:
0
引用数:
0
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0
胡丹
.
中国专利
:CN103364955A
,2013-10-23
[2]
平面光学元件及其设计方法
[P].
张岩
论文数:
0
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0
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0
张岩
;
王森
论文数:
0
引用数:
0
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0
王森
.
中国专利
:CN104101933B
,2014-10-15
[3]
高阈值平面光学元件设计方法、制备方法及平面光学元件
[P].
论文数:
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机构:
罗先刚
;
论文数:
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机构:
王青松
;
论文数:
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机构:
李雄
;
论文数:
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机构:
方瑶
;
孟宇
论文数:
0
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0
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0
机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
孟宇
;
张承君
论文数:
0
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0
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0
机构:
中国科学院光电技术研究所
中国科学院光电技术研究所
张承君
.
中国专利
:CN120821076A
,2025-10-21
[4]
λ传感器元件及其制造方法
[P].
齐藤大未
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0
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齐藤大未
;
藤井并次
论文数:
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藤井并次
;
梶山理一
论文数:
0
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梶山理一
.
中国专利
:CN104101640A
,2014-10-15
[5]
传感器元件及其制造方法
[P].
黑木康二
论文数:
0
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机构:
TDK株式会社
TDK株式会社
黑木康二
;
志村茂
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0
机构:
TDK株式会社
TDK株式会社
志村茂
.
日本专利
:CN118696626A
,2024-09-24
[6]
一种平面光学元件及其加工方法
[P].
朱衡
论文数:
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朱衡
;
吴迪龙
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0
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吴迪龙
;
鲍振军
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鲍振军
;
周衡
论文数:
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周衡
;
李智钢
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李智钢
;
蔡红梅
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蔡红梅
;
鄢定尧
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鄢定尧
.
中国专利
:CN110682165B
,2020-01-14
[7]
平面光学元件精磨装置
[P].
宋淑梅
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0
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0
宋淑梅
;
陈亚
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陈亚
;
谢京江
论文数:
0
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0
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0
谢京江
.
中国专利
:CN101143423A
,2008-03-19
[8]
一种平面光学元件
[P].
徐峥
论文数:
0
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0
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0
徐峥
.
中国专利
:CN205027950U
,2016-02-10
[9]
传感器元件及传感器元件的制造方法
[P].
铃木龙行
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铃木龙行
;
常田尚干
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常田尚干
;
高田凉平
论文数:
0
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0
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高田凉平
.
中国专利
:CN108934178B
,2018-12-04
[10]
传感器元件和制造传感器元件的方法
[P].
托马斯·威廉
论文数:
0
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托马斯·威廉
;
马特乌斯·斯佩克
论文数:
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马特乌斯·斯佩克
.
中国专利
:CN109655511B
,2019-04-19
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