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一种用于真空设备的清洗机构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202022063723.X
申请日：
2020-09-18
公开(公告)号：
CN213348444U
公开(公告)日：
2021-06-04
发明(设计)人：
吕会军
申请人：
申请人地址：
075400 河北省张家口市怀来县高新产业开发区工业纬一路
IPC主分类号：
B01F704
IPC分类号：
B01F1502
B08B9093
B08B302
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-06-04 | 授权 | 授权 |