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抛光磨粒及其制备方法、磁流变抛光液
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111073878.4
申请日
:
2021-09-14
公开(公告)号
:
CN113755133A
公开(公告)日
:
2021-12-07
发明(设计)人
:
潘金龙
叶敏恒
李晓媛
李启凯
叶作彦
王超
申请人
:
申请人地址
:
621000 四川省绵阳市绵山路64号
IPC主分类号
:
C09K314
IPC分类号
:
C09G102
代理机构
:
成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220
代理人
:
唐邦英
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-07
公开
公开
2021-12-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20210914
共 50 条
[1]
磁流变抛光液及其制备方法
[P].
刘卫国
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刘卫国
;
王红军
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王红军
;
田爱玲
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田爱玲
;
郭忠达
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郭忠达
;
杭凌侠
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杭凌侠
;
陈智利
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陈智利
;
刘丙才
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刘丙才
.
中国专利
:CN101139504B
,2008-03-12
[2]
一种单相磁流变抛光液及其制备方法
[P].
李晓媛
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李晓媛
;
叶作彦
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叶作彦
;
叶敏恒
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叶敏恒
;
李启凯
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李启凯
;
王利利
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王利利
;
潘金龙
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潘金龙
;
程磊
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程磊
;
王超
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王超
.
中国专利
:CN113234395A
,2021-08-10
[3]
非水基磁流变抛光液及其制备方法
[P].
彭小强
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彭小强
;
石峰
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石峰
;
陈少山
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陈少山
;
胡皓
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胡皓
;
关朝亮
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关朝亮
;
戴一帆
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戴一帆
.
中国专利
:CN104017503A
,2014-09-03
[4]
一种水基磁辅助抛光液、制备方法及磁流变抛光液
[P].
白杨
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白杨
;
邓伟杰
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邓伟杰
;
薛栋林
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薛栋林
;
张学军
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张学军
.
中国专利
:CN109536039A
,2019-03-29
[5]
一种抛光液用磨粒及其制备方法、抛光液、衬底抛光方法
[P].
王丹
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
王丹
;
母凤文
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
母凤文
;
谭向虎
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
谭向虎
;
刘福超
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
刘福超
;
郭超
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机构:
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
郭超
.
中国专利
:CN118725825A
,2024-10-01
[6]
一种碱性-耐热-多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法
[P].
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机构:
陈明君
;
论文数:
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机构:
田金川
;
论文数:
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机构:
刘赫男
;
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机构:
吴春亚
;
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机构:
程健
.
中国专利
:CN117343646A
,2024-01-05
[7]
用于砷化镓抛光的磁流变抛光液及其制备方法
[P].
曹建国
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曹建国
;
李建勇
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李建勇
;
朱朋哲
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朱朋哲
;
聂蒙
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聂蒙
;
徐金环
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徐金环
.
中国专利
:CN107523220A
,2017-12-29
[8]
化学机械抛光磨粒及其制备方法和抛光液
[P].
苏宏久
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
苏宏久
;
高云峰
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
高云峰
;
冯爽
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甬江实验室
甬江实验室
冯爽
;
严子鹏
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机构:
甬江实验室
甬江实验室
严子鹏
.
中国专利
:CN117821017A
,2024-04-05
[9]
磁流变三维抛光装置及磁流变抛光液
[P].
吕鸿图
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吕鸿图
;
施武助
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施武助
;
徐维浓
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徐维浓
;
向定艾
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向定艾
.
中国专利
:CN108296885A
,2018-07-20
[10]
磁流变非晶合金抛光装置、抛光液及抛光方法
[P].
宋佳
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宋佳
.
中国专利
:CN105904332A
,2016-08-31
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