一种氮化物阻挡层去除方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710318349.3
申请日
2017-05-08
公开(公告)号
CN107134410A
公开(公告)日
2017-09-05
发明(设计)人
唐小亮 姚邵康 陈广龙
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号
IPC主分类号
H01L21311
IPC分类号
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
智云
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种金属氮化物阻挡层的制备方法 [P]. 
王文东 ;
夏洋 ;
李超波 ;
李勇滔 ;
刘训春 .
中国专利 :CN103021931B ,2013-04-03
[2]
一种金属氮化物阻挡层的制备方法 [P]. 
王文东 ;
夏洋 ;
李超波 ;
李勇滔 ;
刘邦武 ;
刘训春 .
中国专利 :CN102623389A ,2012-08-01
[3]
外延Ⅲ族氮化物中的掺杂阻挡层 [P]. 
B·D·舒尔茨 ;
A·托拉比 ;
E·M·詹贝斯 ;
S·列扎 ;
W·E·霍克 .
中国专利 :CN107743655A ,2018-02-27
[4]
具有双分级电子阻挡层的氮化物LED结构 [P]. 
马修·泽维尔·先尼 ;
竹冈忠士 .
中国专利 :CN104733582A ,2015-06-24
[5]
一种制备金属氮化物阻挡层的装置及其使用方法 [P]. 
王文东 ;
夏洋 ;
李超波 ;
李勇滔 ;
刘邦武 ;
刘训春 .
中国专利 :CN102623311A ,2012-08-01
[6]
一种具有空穴阻挡层的氮化物半导体元件 [P]. 
郑锦坚 ;
张江勇 ;
陈婉君 ;
李晓琴 ;
黄军 ;
蒙磊 .
中国专利 :CN117995960A ,2024-05-07
[7]
一种利用石墨烯阻挡层制备氮化物垂直结构LED的方法 [P]. 
王新强 ;
刘放 ;
沈波 ;
吴洁君 ;
荣新 ;
郑显通 ;
盛博文 ;
盛珊珊 .
中国专利 :CN110323308A ,2019-10-11
[8]
用于硅衬底上的III族氮化物的扩散阻挡层 [P]. 
陈祈铭 ;
邱汉钦 ;
喻中一 ;
蔡嘉雄 .
中国专利 :CN103545348A ,2014-01-29
[9]
氮化物层的制造方法 [P]. 
马修·查尔斯 ;
居伊·费尔特 ;
罗伊·达格尔 .
中国专利 :CN114725249A ,2022-07-08
[10]
获得氮化物层的方法 [P]. 
居伊·费尔特 ;
勃朗蒂娜·厄玲 ;
维尔日妮·布兰德利 ;
伯努瓦·马蒂厄 ;
杰西·祖尼加佩雷斯 .
中国专利 :CN111742085B ,2020-10-02