铜蚀刻液用添加剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN94193307.5

申请日：

1994-09-08

公开(公告)号：

CN1130408A

公开(公告)日：

1996-09-04

发明(设计)人：

H·W·理查森 C·F·佐当

申请人：

申请人地址：

美国新泽西州

IPC主分类号：

C23F100

IPC分类号：

C09K1300

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

钟守期;罗才希

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1996-09-04	公开	公开
2004-11-10	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-10-25	授权	授权
1996-12-18	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法 [P].

武岳 ;

周佑联 ;

周志超 .

中国专利 :CN105862040A ,2016-08-17

[2]

添加剂、添加剂分散液、蚀刻原料单元、添加剂供给装置、蚀刻装置及蚀刻方法 [P].

村上友佳子 ;

平川雅章 ;

植松育生 .

中国专利 :CN110904503B ,2020-03-24

[3]

蚀刻液添加剂、蚀刻液及其应用、蚀刻工艺 [P].

郁操 ;

董刚强 .

中国专利 :CN115161641B ,2024-06-11

[4]

一种酸性蚀刻液提铜系统添加剂配方 [P].

龙正 ;

欧阳锋 ;

花慧洋 .

中国专利 :CN105603433A ,2016-05-25

[5]

酸性蚀刻液电解多组分添加剂 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN104152944A ,2014-11-19

[6]

一种酸性蚀刻液添加剂及酸性蚀刻液 [P].

侯延辉 .

中国专利 :CN107747094B ,2018-03-02

[7]

铜蚀刻液 [P].

米田拓也 ;

石田哲司 ;

山本久光 ;

嘉藤一成 ;

清水良祐 .

中国专利 :CN115433939A ,2022-12-06

[8]

酸性蚀刻再生液添加剂和酸性蚀刻再生液 [P].

李再强 ;

黄文涛 ;

张伟奇 ;

梁民 .

中国专利 :CN108950563A ,2018-12-07

[9]

电解液用添加剂 [P].

增田现 .

中国专利 :CN113632285A ,2021-11-09

[10]

电解液用添加剂 [P].

汤山佳菜子 .

中国专利 :CN108140888B ,2018-06-08

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