一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201611018695.1
申请日
2016-11-14
公开(公告)号
CN106379856A
公开(公告)日
2017-02-08
发明(设计)人
高航 刘子源 郭东明
申请人
申请人地址
116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号
IPC主分类号
B81C100
IPC分类号
代理机构
大连东方专利代理有限责任公司 21212
代理人
李洪福
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
KDP晶体水溶解微纳加工系统及加工方法 [P]. 
高航 ;
刘子源 ;
郭东明 .
中国专利 :CN106926139A ,2017-07-07
[2]
一种微纳结构加工装置 [P]. 
林世权 ;
刘检华 ;
刘少丽 ;
夏焕雄 ;
庄存波 ;
敖晓辉 ;
巩浩 .
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[3]
一种大行程微纳加工装置 [P]. 
李伶俐 .
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[4]
一种基于纵向光场的微纳加工装备 [P]. 
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[5]
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秦旭磊 ;
于占江 ;
王佳琦 ;
郑海艳 ;
曹献文 ;
侯威帆 ;
许金凯 ;
于化东 .
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[6]
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[7]
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[8]
一种四光束激光干涉微纳加工装置 [P]. 
李永亮 ;
王驰 ;
杨超 .
中国专利 :CN111308864A ,2020-06-19
[9]
一种四光束激光干涉微纳加工装置 [P]. 
李永亮 ;
王驰 ;
杨超 .
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[10]
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廖勇军 ;
黄光光 ;
张诺寒 ;
杨加明 ;
龚克 ;
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