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抛光设备的主抛光机构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922334792.7
申请日：
2019-12-23
公开(公告)号：
CN211277955U
公开(公告)日：
2020-08-18
发明(设计)人：
刘训海
申请人：
申请人地址：
215300 江苏省苏州市昆山市周市镇京威路80号
IPC主分类号：
B24B4104
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-08-18 | 授权 | 授权 |