等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111024899.7

申请日：

2021-09-02

公开(公告)号：

CN114242552A

公开(公告)日：

2022-03-25

发明(设计)人：

西條利晃阿部淳庄司省吾加藤纯也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L213065

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-25	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

高田郁弥 ;

户花敏胜 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

中国专利 :CN111564355A ,2020-08-21

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

木原嘉英 ;

本田昌伸 ;

久松亨 .

中国专利 :CN105316639B ,2016-02-10

[3]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

本田昌伸 .

中国专利 :CN102209426B ,2011-10-05

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

宇津木康史 ;

东条利洋 .

中国专利 :CN110610843B ,2019-12-24

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

青木裕介 ;

高田郁弥 ;

户花敏胜 ;

森北信也 ;

藤原一延 ;

阿部淳 ;

永海幸一 .

日本专利 :CN111564355B ,2024-08-06

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

岸宏树 ;

徐智洙 .

中国专利 :CN106920733B ,2017-07-04

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

山岸幸司 ;

白泽大辅 .

中国专利 :CN112992643A ,2021-06-18

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

李诚泰 ;

土桥和也 .

中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

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