光学记录介质、其制造方法及其记录和复制的方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510007964.X

申请日：

2005-02-04

公开(公告)号：

CN1815589A

公开(公告)日：

2006-08-09

发明(设计)人：

八代彻中村有希见上竜雄

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B724

IPC分类号：

G11B726

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

贾静环;宋莉

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/24 申请日:20050204 授权公告日:20080416 终止日期:20200204
2006-10-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-04-16	授权	授权
2006-08-09	公开	公开

共 50 条

[1]

光学记录介质、其记录和复制方法以及光学记录装置 [P].

八代彻 ;

中村有希 ;

见上竜雄 ;

清水几夫 ;

衣笠元晴 ;

丰田浩 .

中国专利 :CN101022958A ,2007-08-22

[2]

光学记录方法,光学记录装置,光学记录介质,光学复制方法和光学复制装置 [P].

宇佐美由久 ;

益金和行 .

中国专利 :CN101110228A ,2008-01-23

[3]

光学记录介质和两层光学记录介质、使用该介质的记录和复制方法和记录和复制的装置 [P].

真贝胜 ;

篠塚道明 ;

岩佐博之 .

中国专利 :CN1934636A ,2007-03-21

[4]

光学记录介质和其制造方法 [P].

重松茂人 ;

续山浩二 .

中国专利 :CN1042259A ,1990-05-16

[5]

光学记录介质和其制造方法 [P].

重松茂人 ;

续山浩二 .

中国专利 :CN1053688A ,1991-08-07

[6]

光学记录介质、其记录和再现方法及光学记录和再现装置 [P].

八代彻 .

中国专利 :CN101057283A ,2007-10-17

[7]

光学记录介质及其生产方法以及记录和复制的方法 [P].

林嘉隆 ;

三浦博 ;

龟崎久光 .

中国专利 :CN101010741A ,2007-08-01

[8]

用于光学记录介质的制造方法和光学记录介质 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102024477A ,2011-04-20

[9]

光学记录介质及其制造方法以及光学记录和再现装置 [P].

山崎刚 ;

行本智美 ;

古木基裕 ;

柏木俊行 .

中国专利 :CN1242568A ,2000-01-26

[10]

光学记录介质复制装置及其方法 [P].

权永植 .

中国专利 :CN1534647A ,2004-10-06

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