高折射率纳米杂化消光材料制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011072172.1

申请日：

2018-11-23

公开(公告)号：

CN112126271A

公开(公告)日：

2020-12-25

发明(设计)人：

金闯

申请人：

申请人地址：

266000 山东省青岛市崂山区株洲路143号石老人基地内3号楼B区3层B304

IPC主分类号：

C09D742

IPC分类号：

C09D1103

代理机构：

青岛中天汇智知识产权代理有限公司 37241

代理人：

刘晓

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09D 7/42 申请日:20181123
2022-12-09	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C09D 7/42 登记生效日:20221128 变更事项:专利权人变更前权利人:青岛磐诺新材料有限公司变更后权利人:陈莹变更事项:地址变更前权利人:266000 山东省青岛市崂山区株洲路143号石老人基地内3号楼B区3层B304 变更后权利人:266000 山东省青岛市市南区高雄路16号
2020-12-25	公开	公开
2022-03-15	授权	授权

共 50 条

[1]

高折射率纳米杂化消光材料及其制备方法 [P].

金闯 .

中国专利 :CN109401554A ,2019-03-01

[2]

一种有机-无机纳米杂化高折射率光学材料的制备方法 [P].

姚伯龙 ;

胡绪灿 ;

刘嘉成 ;

陈昆 ;

刘竞 ;

王利魁 ;

李承东 .

中国专利 :CN110698861B ,2020-01-17

[3]

高折射率材料 [P].

竹内义行 .

中国专利 :CN101484503A ,2009-07-15

[4]

高折射率材料 [P].

A·帕特森 ;

王德岩 ;

B·L·塞克马恩 ;

C·D·吉尔莫 ;

尹喜在 ;

A·D·查韦斯 ;

C·穆尔泽 ;

M·H·小霍华德 ;

J·S·梅 ;

郑周永 ;

李垠泳 .

中国专利 :CN114316137A ,2022-04-12

[5]

高折射率材料 [P].

拉吉夫·斯里瓦斯塔瓦 ;

道格拉斯·迈克尔·杜克斯 ;

林海辉 .

中国专利 :CN104583278A ,2015-04-29

[6]

高折射率材料 [P].

A·帕特森 ;

R·斯奈德 ;

G·霍斯泰特勒 ;

C·坎齐 ;

B·塞克马恩 ;

王德岩 ;

尹喜在 ;

李秀敏 ;

李禧林 .

美国专利 :CN117866195A ,2024-04-12

[7]

高折射率纳米颗粒 [P].

Y·勒克莱尔 ;

赵健 ;

施利毅 ;

袁帅 ;

张美红 ;

王竹仪 .

中国专利 :CN111757853A ,2020-10-09

[8]

一种高折射率纳米无机物杂化光伏封装材料 [P].

周欣蕊 ;

熊曦 ;

侯宏兵 ;

周光大 ;

林建华 .

中国专利 :CN106833406A ,2017-06-13

[9]

高折射率光学树脂材料的制备方法 [P].

费铮翔 ;

曹根庭 .

中国专利 :CN1325943C ,2004-11-24

[10]

渐变折射率材料制备方法 [P].

奚衍罡 ;

陈小源 ;

李玉磊 .

中国专利 :CN104678461A ,2015-06-03

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