从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410374866.9

申请日：

2014-07-31

公开(公告)号：

CN104338712B

公开(公告)日：

2015-02-11

发明(设计)人：

田村透古泽修也

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

B08B700

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101663312111 IPC(主分类):B08B 7/00 专利申请号:2014103748669 申请日:20140731
2015-02-11	公开	公开
2018-03-30	授权	授权

共 50 条

[1]

从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置 [P].

田村透 ;

古泽修也 .

中国专利 :CN104369525A ,2015-02-25

[2]

膜层叠体的制造装置及膜层叠体的制造方法 [P].

朱伟贤 ;

松本周三 ;

印玉根 ;

黄健 .

中国专利 :CN105984745A ,2016-10-05

[3]

膜层叠体的制造方法及膜层叠体的制造设备 [P].

田村透 ;

古泽修也 .

中国专利 :CN104512087A ,2015-04-15

[4]

层叠膜及层叠膜的制造方法 [P].

河村真一 .

中国专利 :CN106199809B ,2016-12-07

[5]

层叠体、阻气膜、层叠体的制造方法及层叠体制造装置 [P].

吉原俊昭 ;

黑木恭子 ;

加纳满 ;

佐藤尽 .

中国专利 :CN103732393A ,2014-04-16

[6]

层叠体、保护膜及层叠体的制造方法 [P].

佐佐木启光 ;

上原阳介 ;

田中祐介 .

中国专利 :CN105308139A ,2016-02-03

[7]

层叠体的制造装置及层叠体的制造方法 [P].

平间道信 .

日本专利 :CN119999056A ,2025-05-13

[8]

层叠体的制造装置及层叠体的制造方法 [P].

新山聪 ;

太田和重 ;

马场建郎 .

中国专利 :CN105189119A ,2015-12-23

[9]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置 [P].

大泷雅士 ;

久米悦夫 ;

仓本贤尚 .

日本专利 :CN113715374B ,2025-09-26

[10]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置 [P].

三浦秀宣 ;

门英昭 ;

宫村勋 ;

石渡和孝 ;

大泷雅士 ;

久米悦夫 ;

仓本贤尚 .

中国专利 :CN113696494A ,2021-11-26

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