用于改进离子注入均匀性的离子束扫描系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580027218.5

申请日：

2005-06-06

公开(公告)号：

CN101002294A

公开(公告)日：

2007-07-18

发明(设计)人：

B·范德贝里 A·雷 K·温策尔

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

H01J37317

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

刘红;王忠忠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-27	授权	授权
2007-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-07-18	公开	公开

共 50 条

[1]

离子束扫描控制方法和用于均匀注入离子的系统 [P].

V·本维尼斯特 ;

W·迪弗吉利奥 ;

P·凯勒曼 .

中国专利 :CN101124650A ,2008-02-13

[2]

用于离子注入系统的离子束角度测量系统和方法 [P].

布赖恩·弗瑞尔 ;

亚历山大·普瑞尔 .

中国专利 :CN101361160A ,2009-02-04

[3]

提高离子注入系统中磁扫描离子束一致性的方法 [P].

爱德华·艾伊斯勒 ;

伯·范德伯格 .

中国专利 :CN105869978B ,2016-08-17

[4]

静电扫描器、离子注入系统以及用于处理离子束的方法 [P].

法兰克·辛克莱 ;

约瑟·C·欧尔森 ;

艾德沃·W·比尔 ;

大尼尔·菲德门 .

中国专利 :CN105340052B ,2016-02-17

[5]

扫描离子束的改善均匀性 [P].

爱德华·艾伊斯勒 ;

安迪·雷 ;

伯·范德伯格 .

中国专利 :CN103477416A ,2013-12-25

[6]

离子注入方法和离子注入系统 [P].

爱德华·艾伊斯勒 ;

伯·范德伯格 .

中国专利 :CN102884607B ,2013-01-16

[7]

扫描离子注入系统中原位离子束电流的监测与控制 [P].

阿尔弗雷德·哈林 .

中国专利 :CN109643628A ,2019-04-16

[8]

离子注入均匀性调节方法 [P].

周璇 .

中国专利 :CN120911114A ,2025-11-07

[9]

用于离子注入的混合扫描系统及方法 [P].

唐纳德·W·伯里安 ;

约翰·D·波洛克 ;

约翰·W·范德波特 .

中国专利 :CN1500284A ,2004-05-26

[10]

一种用带状离子束注入工件的离子注入系统 [P].

陈炯 .

中国专利 :CN221747156U ,2024-09-20

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