接近传感器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810147836.2

申请日：

2018-02-12

公开(公告)号：

CN109560803B

公开(公告)日：

2019-04-02

发明(设计)人：

长谷川亮太土田裕之宫本和昭林裕介松冈宪司

申请人：

申请人地址：

日本京都府京都市下京区盐小路通堀川东入南不动堂町801番地

IPC主分类号：

H03K1795

IPC分类号：

G01K100

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马爽;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-02	公开	公开
2019-04-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H03K 17/95 申请日:20180212
2023-01-17	授权	授权

共 50 条

[1]

光学接近传感器和接近传感器 [P].

D·N·圣菲利波 .

中国专利 :CN212905460U ,2021-04-06

[2]

接近传感器 [P].

广野大辅 ;

木村胜治 ;

浦野雄贵 .

中国专利 :CN112997405A ,2021-06-18

[3]

接近传感器 [P].

佐藤宁 .

中国专利 :CN105556846A ,2016-05-04

[4]

接近传感器 [P].

土田裕之 ;

松冈靖 ;

仁井见亲 ;

林一博 ;

宫本和昭 ;

藤长宽之 ;

青木徹 ;

中村新 ;

田名濑和司 ;

北岛功朗 ;

小西义一 ;

河野雅行 ;

大塚隆史 ;

北中正教 ;

柴山雅彦 ;

山口幸雄 .

中国专利 :CN1459119A ,2003-11-26

[5]

接近传感器 [P].

冈本卓也 ;

中山祐辅 ;

土田裕之 .

中国专利 :CN110174126A ,2019-08-27

[6]

接近传感器 [P].

田中飒树 ;

永田晃规 .

日本专利 :CN121232285A ,2025-12-30

[7]

接近传感器 [P].

河村康平 ;

鹿岛宽士 ;

川口泰范 .

日本专利 :CN121232283A ,2025-12-30

[8]

接近传感器的制造方法及接近传感器的制造系统 [P].

长谷川亮太 ;

土田裕之 ;

宫本和昭 ;

林裕介 ;

松冈宪司 .

中国专利 :CN109557876A ,2019-04-02

[9]

接近传感器帽及接近传感器 [P].

栾竟恩 ;

J·泰赛尔 .

中国专利 :CN204807100U ,2015-11-25

[10]

接近传感器 [P].

川崎佑也 ;

胁直纯 .

中国专利 :CN107888176A ,2018-04-06

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