一种立式双分散盘研磨机

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202120513948.2
申请日
2021-03-11
公开(公告)号
CN215312816U
公开(公告)日
2021-12-28
发明(设计)人
陈吕
申请人
申请人地址
523000 广东省东莞市大岭山镇颜屋村莲颜路88号
IPC主分类号
B02C1710
IPC分类号
B02C1716 B02C1718
代理机构
广东莞信律师事务所 44332
代理人
方小明
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种立式双分散盘研磨机 [P]. 
徐勇 .
中国专利 :CN221208361U ,2024-06-25
[2]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN211070293U ,2020-07-24
[3]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN211070294U ,2020-07-24
[4]
一种高效的立式分散研磨机 [P]. 
罗小钢 ;
邹文华 .
中国专利 :CN208356926U ,2019-01-11
[5]
立式双盘表面研磨机 [P]. 
齐藤明善 .
中国专利 :CN1235721C ,2002-11-20
[6]
一种研磨机高效研磨分散盘 [P]. 
张敏 ;
陶应昊 ;
张春平 .
中国专利 :CN223602599U ,2025-11-28
[7]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN112221615B ,2025-07-18
[8]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN215507083U ,2022-01-14
[9]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN211190418U ,2020-08-07
[10]
立式研磨机 [P]. 
唐志鹏 ;
李俊斌 .
中国专利 :CN114471854A ,2022-05-13