一种气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120351150.9

申请日：

2011-09-19

公开(公告)号：

CN202347096U

公开(公告)日：

2012-07-25

发明(设计)人：

徐亚伟

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;张天舒

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-08	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20110919 授权公告日:20120725
2012-07-25	授权	授权
2017-10-13	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760675313 IPC(主分类):C23C 16/455 专利号:ZL2011203511509 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备 [P].

龙梅丽 .

中国专利 :CN222795721U ,2025-04-25

[2]

化学气相沉积设备 [P].

李一成 ;

汪宇澄 .

中国专利 :CN202499905U ,2012-10-24

[3]

一种气相沉积设备 [P].

邢志刚 ;

刘雷 ;

张志明 ;

周慧娟 .

中国专利 :CN221566317U ,2024-08-20

[4]

一种气相沉积设备 [P].

储培鸣 .

中国专利 :CN204918751U ,2015-12-30

[5]

一种气相沉积设备 [P].

叶侃 .

中国专利 :CN208545494U ,2019-02-26

[6]

一种气相沉积设备 [P].

丁伟 ;

郑振宇 .

中国专利 :CN220579386U ,2024-03-12

[7]

一种气相沉积设备 [P].

崔日 .

中国专利 :CN207845775U ,2018-09-11

[8]

气相沉积设备 [P].

赵曈济 .

中国专利 :CN216192697U ,2022-04-05

[9]

气相沉积设备 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223268761U ,2025-08-26

[10]

气相沉积设备 [P].

张志明 ;

刘雷 .

中国专利 :CN221566313U ,2024-08-20

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