偏振性层叠膜及偏振片的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180059034.2

申请日：

2011-12-06

公开(公告)号：

CN103261928B

公开(公告)日：

2013-08-21

发明(设计)人：

河村真一

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

龚敏

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20111206 授权公告日:20160615 终止日期:20171206
2013-08-21	公开	公开
2016-06-15	授权	授权
2013-09-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101520127766 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2011800590342 申请日:20111206

共 50 条

[1]

偏振性层叠膜和偏振片的制造方法 [P].

松野健次 ;

市原正宽 .

中国专利 :CN105467493B ,2016-04-06

[2]

层叠膜、层叠膜的制造方法、偏振性层叠膜的制造方法、偏振片的制造方法 [P].

河村真一 .

中国专利 :CN106019419A ,2016-10-12

[3]

偏振性层叠膜的制造方法和偏振片的制造方法 [P].

河村真一 .

中国专利 :CN109917507A ,2019-06-21

[4]

偏振性层叠膜的制造方法和偏振片的制造方法 [P].

河村真一 .

中国专利 :CN104737042A ,2015-06-24

[5]

偏振性层叠膜及偏振板的制造方法 [P].

河村真一 .

中国专利 :CN102754002B ,2012-10-24

[6]

偏振膜、偏振片、及偏振膜的制造方法 [P].

后藤周作 .

中国专利 :CN111108417B ,2020-05-05

[7]

偏振膜、偏振片、及偏振膜的制造方法 [P].

后藤周作 ;

高永幸佑 .

中国专利 :CN111095055A ,2020-05-01

[8]

偏振膜、偏振片、及偏振膜的制造方法 [P].

后藤周作 ;

高永幸佑 ;

岛津亮 .

中国专利 :CN111316142B ,2020-06-19

[9]

层叠体、层叠体的制造方法、偏振片及偏振片的制造方法 [P].

石丸咲美 ;

滨本大介 .

中国专利 :CN110741291A ,2020-01-31

[10]

层叠体、层叠体的制造方法、偏振片及偏振片的制造方法 [P].

石丸咲美 ;

滨本大介 .

日本专利 :CN119846761A ,2025-04-18

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