用于生成X射线辐射的X射线源装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880007493.8

申请日：

2018-01-19

公开(公告)号：

CN110199575A

公开(公告)日：

2019-09-03

发明(设计)人：

O·沃伊沃德 D·巴尔特 A·根西奥 J·韦伯

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

H05G122

IPC分类号：

H05G132

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

李光颖

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-03	公开	公开
2020-02-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05G 1/22 申请日:20180119

共 50 条

[1]

X射线源和X射线成像装置 [P].

R·斯特德曼布克 ;

G·福格特米尔 .

中国专利 :CN112005332A ,2020-11-27

[2]

X射线源和X射线成像装置 [P].

R·斯特德曼布克 ;

G·福格特米尔 .

:CN112005332B ,2025-01-24

[3]

X射线源和用于控制X射线辐射的方法 [P].

卡尔曼·费什曼 ;

布莱恩·帕特里克·威尔弗莱 ;

克里斯托弗·W·埃勒诺 ;

唐纳德·奥尔加多 ;

顾纯元 ;

托比亚斯·芬克 ;

佩特·瓦塔霍夫 ;

克里斯托弗·R·米切尔 .

中国专利 :CN110382047B ,2019-10-25

[4]

X射线源以及用于产生X射线辐射的方法 [P].

比约恩·汉森 ;

波尔·塔克曼 ;

王育立 ;

田中志穂 .

中国专利 :CN111542906A ,2020-08-14

[5]

用于测量辐射的X射线源 [P].

R·K·O·贝林 .

中国专利 :CN101689464A ,2010-03-31

[6]

X射线源辐射装置 [P].

郭思明 ;

宋瑞强 ;

吴金杰 .

中国专利 :CN111487673A ,2020-08-04

[7]

用于保护X射线源的方法以及X射线源 [P].

汤米·图希玛 ;

波尔·塔克曼 ;

丹尼尔·拉尔森 .

中国专利 :CN111713182A ,2020-09-25

[8]

X射线源 [P].

爱德华·J.·摩顿 ;

拉塞尔·D.·卢加 ;

保罗·德·安东尼斯 .

中国专利 :CN1781178A ,2006-05-31

[9]

X射线源 [P].

古木裕记 ;

石井淳 ;

田口达也 ;

田村绫斗 .

日本专利 :CN223142191U ,2025-07-22

[10]

X射线源 [P].

伊藤通浩 .

中国专利 :CN1994028A ,2007-07-04

← 1 2 3 4 5 →