溅射靶的制造方法及溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780003731.3

申请日：

2017-07-10

公开(公告)号：

CN108350565A

公开(公告)日：

2018-07-31

发明(设计)人：

泷川干雄

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨宏军;李国卿

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-18	授权	授权
2018-07-31	公开	公开
2019-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20170710

共 50 条

[1]

溅射靶制造方法及溅射靶 [P].

斋藤淳 .

中国专利 :CN102959122A ,2013-03-06

[2]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

藤田昌宏 ;

西冈宏司 .

中国专利 :CN109952389A ,2019-06-28

[3]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

芦小丽 ;

新田纯一 ;

中村晃 ;

佐藤美穂 .

中国专利 :CN111051566A ,2020-04-21

[4]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

日本专利 :CN113508187B ,2024-02-27

[5]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

中国专利 :CN113544308B ,2021-10-22

[6]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

武末健太郎 ;

和田优 ;

松本浩一 ;

川越裕 ;

西村元秀 .

中国专利 :CN114008237A ,2022-02-01

[7]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

泷川干雄 ;

寺泽俊之 .

中国专利 :CN108350566A ,2018-07-31

[8]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

梅本启太 ;

张守斌 ;

陆田雄也 .

中国专利 :CN108138311A ,2018-06-08

[9]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

武末健太郎 ;

和田优 ;

松本浩一 ;

川越裕 ;

西村元秀 .

日本专利 :CN114008237B ,2024-06-25

[10]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

村田周平 ;

岩渊将也 ;

佐藤祐介 .

日本专利 :CN116261605B ,2025-04-25

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