基片处理装置和基片处理装置的控制方法

被引：0

申请号：

CN202210608532.8

申请日：

2022-05-31

公开(公告)号：

CN115472525A

公开(公告)日：

2022-12-13

发明(设计)人：

津贺尾圭祐奥村智则

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;刘芃茜

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-13	公开	公开

共 50 条

[1]

气体处理装置和基片处理装置 [P].

津贺尾圭祐 ;

青木大辅 .

中国专利 :CN218485582U ,2023-02-17

[2]

气体处理装置和基片处理装置 [P].

津贺尾圭祐 ;

青木大辅 .

中国专利 :CN115463520A ,2022-12-13

[3]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

根岸康介 .

中国专利 :CN114664691A ,2022-06-24

[4]

基片处理装置和基片处理装置的控制方法 [P].

田中一光 ;

李黎夫 ;

辻本宏 ;

寺泽淳 .

中国专利 :CN113643953A ,2021-11-12

[5]

基片处理装置、基片处理方法和基片 [P].

小原隆宪 ;

毛利信彦 .

日本专利 :CN118016559A ,2024-05-10

[6]

基片处理装置的控制装置和基片处理装置的控制方法 [P].

野中纯 .

中国专利 :CN111106035A ,2020-05-05

[7]

基片处理装置、基片处理方法和基片处理程序 [P].

末政凉 ;

大村和久 .

日本专利 :CN119487617A ,2025-02-18

[8]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

日高章一郎 ;

池田朋生 ;

碛本荣一 ;

岩永和也 ;

林圣人 .

日本专利 :CN110783226B ,2024-05-24

[9]

基片处理方法和基片处理装置 [P].

熊谷圭惠 ;

久松亨 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN112802737A ,2021-05-14

[10]

基片处理装置和基片处理方法 [P].

松山健一郎 .

日本专利 :CN111489986B ,2024-03-22

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