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具有改进难溶、分散相、流体调理剂沉积的高发泡调理香波
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN94193368.7
申请日
:
1994-06-17
公开(公告)号
:
CN1066040C
公开(公告)日
:
1997-07-02
发明(设计)人
:
菲利普·E·科思伦
蒂莫西·W·科芬达弗
申请人
:
申请人地址
:
美国俄亥俄州
IPC主分类号
:
A61K7075
IPC分类号
:
代理机构
:
柳沈知识产权律师事务所
代理人
:
巫肖南
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2001-05-23
授权
授权
1997-07-02
公开
公开
2007-08-15
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-07-09
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
共 8 条
[1]
具有改进粒状去头屑剂沉积的高发泡去头屑香波
[P].
菲利普·E·科思伦
论文数:
0
引用数:
0
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菲利普·E·科思伦
;
凯文·P·默里
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凯文·P·默里
;
蒂莫西·W·科芬达弗
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蒂莫西·W·科芬达弗
;
托马斯·F·高西尔
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托马斯·F·高西尔
.
中国专利
:CN1130862A
,1996-09-11
[2]
改进硅氧烷沉积性能的调理香波组合物
[P].
西恩·Y·耶奥
论文数:
0
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西恩·Y·耶奥
;
蒂莫西·W·科芬达弗
论文数:
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蒂莫西·W·科芬达弗
;
内山浩孝
论文数:
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内山浩孝
;
约翰·G·施罗德
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约翰·G·施罗德
;
奥山佳成
论文数:
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奥山佳成
.
中国专利
:CN1239881A
,1999-12-29
[3]
具有改进的稳定性的调理香波组合物
[P].
内山浩孝
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0
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内山浩孝
;
迫孝
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迫孝
;
奥山佳成
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0
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奥山佳成
.
中国专利
:CN1204255A
,1999-01-06
[4]
具有硅酮和阳离子表面活性剂调理剂的香波组合物
[P].
R·L·威尔斯
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0
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R·L·威尔斯
;
L·J·巴茨
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L·J·巴茨
;
J·D·兰格雷伯
论文数:
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J·D·兰格雷伯
.
中国专利
:CN1062836A
,1992-07-22
[5]
具有改进抗微生物剂沉积的香波组合物
[P].
卡伦·K·卡拉
论文数:
0
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卡伦·K·卡拉
;
朱莉·M·亨特
论文数:
0
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0
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朱莉·M·亨特
.
中国专利
:CN1213294A
,1999-04-07
[6]
具有不溶性硅氧烷调理剂和阳离子聚合物的香波
[P].
菲利普·E·科思伦
论文数:
0
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菲利普·E·科思伦
;
托马斯·F·高斯尔
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0
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托马斯·F·高斯尔
;
蒂莫西·W·科芬达弗
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0
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蒂莫西·W·科芬达弗
.
中国专利
:CN1184415A
,1998-06-10
[7]
具有增强的聚丙烯酸酯微胶囊的沉积的调理剂组合物
[P].
J·O·迪奥拉
论文数:
0
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J·O·迪奥拉
;
长谷川润
论文数:
0
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0
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长谷川润
.
中国专利
:CN103458871B
,2013-12-18
[8]
包含酰胺基胺阳离子表面活性剂和沉积聚合物并且具有较低PH的毛发调理组合物
[P].
上原伸晃
论文数:
0
引用数:
0
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上原伸晃
;
高慧娴
论文数:
0
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高慧娴
;
T·Y·利姆
论文数:
0
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0
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T·Y·利姆
.
中国专利
:CN106456504A
,2017-02-22
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