高频处理装置

被引：0

申请号：

CN202180014965.4

申请日：

2021-01-26

公开(公告)号：

CN115104379A

公开(公告)日：

2022-09-23

发明(设计)人：

大森义治细川大介中村秀树前田和树夘野高史

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H05B664

IPC分类号：

H05B668 H05B670

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

曹磊;马建军

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-23	公开	公开

共 50 条

[1]

高频处理装置 [P].

中村秀树 ;

细川大介 ;

大森义治 ;

前田和树 ;

夘野高史 .

中国专利 :CN115136736A ,2022-09-30

[2]

高频处理装置 [P].

冈岛利幸 ;

夘野高史 ;

福井干男 .

日本专利 :CN118648376A ,2024-09-13

[3]

高频美容处理装置 [P].

山崎岩男 .

中国专利 :CN109173046A ,2019-01-11

[4]

高频水处理装置 [P].

施德明 ;

林生 ;

刘同明 .

中国专利 :CN2086256U ,1991-10-09

[5]

高频美容处理装置 [P].

山崎岩男 .

中国专利 :CN105358213A ,2016-02-24

[6]

高频等离子体处理装置和高频等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

佐佐木和男 .

中国专利 :CN104882376B ,2015-09-02

[7]

高频反应处理装置与高频反应处理系统 [P].

高松利行 .

中国专利 :CN115336395A ,2022-11-11

[8]

高频反应处理装置与高频反应处理系统 [P].

高松利行 .

日本专利 :CN115336395B ,2025-07-01

[9]

内窥镜用高频处理装置 [P].

李鹏 ;

时百明 ;

张宇翔 .

中国专利 :CN208942298U ,2019-06-07

[10]

高频电极水处理装置 [P].

林曼红 .

中国专利 :CN201212023Y ,2009-03-25

← 1 2 3 4 5 →