一种多色双模式结构光照明显微成像系统及其成像方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110029609.1

申请日：

2021-01-11

公开(公告)号：

CN112859315A

公开(公告)日：

2021-05-28

发明(设计)人：

席鹏李美琪李雅宁

申请人：

申请人地址：

100871 北京市海淀区颐和园路5号

IPC主分类号：

G02B2106

IPC分类号：

G02B2728 G02B2608 G02B2742 G02B2116 G02B2136

代理机构：

北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360

代理人：

王岩

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B 21/06 申请公布日:20210528
2021-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 21/06 申请日:20210111
2021-05-28	公开	公开

共 50 条

[1]

多色双模式结构光照明显微成像装置 [P].

胡学娟 ;

叶剑泽 ;

陈玲玲 ;

谭雅丹 ;

王恒亮 ;

梁艺飞 ;

吴庆阳 ;

陈菲 .

中国专利 :CN117330548A ,2024-01-02

[2]

结构光照明显微成像系统 [P].

熊大曦 ;

杨西斌 ;

王沛沛 .

中国专利 :CN207123652U ,2018-03-20

[3]

结构光照明显微成像系统 [P].

熊大曦 ;

杨西斌 ;

王沛沛 .

中国专利 :CN106990519A ,2017-07-28

[4]

结构光照明显微成像系统 [P].

熊大曦 ;

杨西斌 ;

王沛沛 .

中国专利 :CN106990519B ,2024-09-24

[5]

结构光照明显微成像系统、方法 [P].

谭峭峰 ;

徐宁 ;

刘国漩 ;

杨怀栋 .

中国专利 :CN113433681A ,2021-09-24

[6]

非线性结构光照明显微成像方法及系统 [P].

李思黾 ;

李辉 ;

杨西斌 ;

杨光 ;

梁永 ;

熊大曦 .

中国专利 :CN104515759B ,2015-04-15

[7]

显微成像系统（结构光照明） [P].

于波 ;

王弼陡 ;

崔雷 ;

何大永 ;

周旻超 ;

刘鑫龙 ;

孙晓洁 .

中国专利 :CN305553335S ,2020-01-14

[8]

一种上转换和下转换双模结构光照明显微成像系统 [P].

温维佳 ;

冯亮 .

中国专利 :CN116520546B ,2025-09-26

[9]

结构光照明层析显微成像系统 [P].

郑炜 ;

杨守胜 .

中国专利 :CN103018173A ,2013-04-03

[10]

一种基于硅基液晶芯片的结构光照明显微成像系统 [P].

熊大曦 ;

杨西斌 ;

朱剑锋 ;

李辉 .

中国专利 :CN103605202A ,2014-02-26

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