一种磁控溅射离子镀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610144822.2

申请日：

2006-11-21

公开(公告)号：

CN100560788C

公开(公告)日：

2008-06-04

发明(设计)人：

郭丽芬钟源宫清

申请人：

申请人地址：

518119广东省深圳市龙岗区葵涌镇延安路比亚迪工业园

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454 C23C1414

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司

代理人：

王凤桐;董占敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-11-18	授权	授权
2008-06-04	公开	公开
2008-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

高能级磁控溅射离子镀技术 [P].

陈宝清 ;

朱英臣 ;

王玉魁 ;

王斐杰 .

中国专利 :CN85102600B ,1986-09-17

[2]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN202643827U ,2013-01-02

[3]

非平衡闭合场磁控溅射离子镀设备 [P].

文晓斌 ;

栾亚 .

中国专利 :CN102677011B ,2012-09-19

[4]

一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置 [P].

范湘军 ;

彭友贵 ;

杨兵 ;

付德君 .

中国专利 :CN100392147C ,2006-01-11

[5]

一种磁控溅射离子镀双层膜用炉 [P].

马晓明 .

中国专利 :CN204779791U ,2015-11-18

[6]

轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置 [P].

刘长明 ;

陈玲芳 .

中国专利 :CN203999795U ,2014-12-10

[7]

应用于真空电弧离子镀及磁控溅射离子镀的驱动电源 [P].

窦久存 .

中国专利 :CN210958121U ,2020-07-07

[8]

一种磁控溅射离子镀双层膜用炉及方法 [P].

马晓明 .

中国专利 :CN104975266A ,2015-10-14

[9]

轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法 [P].

刘长明 ;

陈玲芳 .

中国专利 :CN104328380A ,2015-02-04

[10]

一种微波离子源辅助的磁控溅射离子镀装置 [P].

陈炳州 .

中国专利 :CN213925000U ,2021-08-10

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