膜图案的形成法、有源矩阵基板、电光装置、电子仪器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610084866.0

申请日：

2006-05-23

公开(公告)号：

CN100420002C

公开(公告)日：

2006-11-29

发明(设计)人：

守屋克之平井利充

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L2184

IPC分类号：

H01L21768 H01L2712 H01L23522 H05B3310

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汪惠民

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-01-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-07-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101489562886 IPC(主分类):H01L 21/84 专利号:ZL2006100848660 申请日:20060523 授权公告日:20080917 终止日期:20120523
2006-11-29	公开	公开
2008-09-17	授权	授权

共 50 条

[1]

膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器 [P].

平井利充 .

中国专利 :CN1816254A ,2006-08-09

[2]

膜图案的形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器 [P].

守屋克之 ;

平井利充 .

中国专利 :CN1816253A ,2006-08-09

[3]

有源矩阵基板及其制造方法、电光学装置及电子仪器 [P].

守屋克之 .

中国专利 :CN100485903C ,2006-08-16

[4]

薄膜图案形成法、器件及其制法、电光学装置和电子仪器 [P].

平井利充 .

中国专利 :CN1551297A ,2004-12-01

[5]

图案及其形成法、器件及其制法、电光学装置、电子仪器 [P].

平井利充 .

中国专利 :CN1551331A ,2004-12-01

[6]

矩阵基板、电子装置、电光装置及电子仪器 [P].

中西早人 .

中国专利 :CN1505445A ,2004-06-16

[7]

有源矩阵型电光装置和电子仪器 [P].

二村徹 ;

藤田伸 .

中国专利 :CN1266534C ,2004-05-19

[8]

导电膜图案的形成方法、电光学装置和电子仪器 [P].

丰田直之 .

中国专利 :CN1592528A ,2005-03-09

[9]

器件及制法、有源矩阵基板的制法及电光学装置和电子仪器 [P].

长谷井宏宣 .

中国专利 :CN1573493A ,2005-02-02

[10]

膜图案的形成方法、器件、电光学装置、电子仪器 [P].

平井利充 ;

守屋克之 .

中国专利 :CN1909207A ,2007-02-07

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