版图设计方法以及版图设计单元集合

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510005136.6

申请日：

2015-01-06

公开(公告)号：

CN105826315A

公开(公告)日：

2016-08-03

发明(设计)人：

张弓

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L2702

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

高静;骆苏华

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-12	授权	授权
2016-08-03	公开	公开
2016-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101676760050 IPC(主分类):H01L 27/02 专利申请号:2015100051366 申请日:20150106

共 50 条

[1]

版图设计方法、系统及设备、电路版图以及存储介质 [P].

蔡宇韬 .

中国专利 :CN114899187B ,2025-02-07

[2]

版图设计方法、系统及设备、电路版图以及存储介质 [P].

蔡宇韬 .

中国专利 :CN114899187A ,2022-08-12

[3]

集成电路的版图设计方法、版图设计系统和制作方法 [P].

孙建伟 ;

陈岚 ;

王海永 .

中国专利 :CN104915528A ,2015-09-16

[4]

基于LOD效应的标准单元版图设计方法 [P].

王睿卿 ;

高唯欢 .

中国专利 :CN119005102A ,2024-11-22

[5]

芯片单元的版图设计结构及集成电路 [P].

郭井义 ;

张文涵 ;

刘超 ;

马卓 ;

张孝 .

中国专利 :CN120111962A ,2025-06-06

[6]

标准单元库版图设计方法、布局方法及标准单元库 [P].

赵劼 ;

陈岚 ;

尹明会 .

中国专利 :CN103022032A ,2013-04-03

[7]

一种参数化定制晶体管版图的设计方法以及芯片版图结构 [P].

朱观禄 .

中国专利 :CN113705148B ,2025-04-11

[8]

一种参数化定制晶体管版图的设计方法以及芯片版图结构 [P].

朱观禄 .

中国专利 :CN113705148A ,2021-11-26

[9]

基于FDSOI结构的电平转换单元电路及版图设计方法 [P].

张凯 ;

胡晓明 ;

高唯欢 .

中国专利 :CN110620577A ,2019-12-27

[10]

一种存储单元电路的抗辐射版图设计方法 [P].

佘晓轩 .

中国专利 :CN106372269B ,2017-02-01

← 1 2 3 4 5 →