化学抛光方法、经该方法抛光的玻璃基板及化学抛光装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200510083327.0
申请日
2002-04-11
公开(公告)号
CN100462319C
公开(公告)日
2006-01-25
发明(设计)人
西山智弘 出口干郎 丝川胜博 小谷诚 沟口幸一
申请人
申请人地址
日本大阪府
IPC主分类号
C03C1500
IPC分类号
G02F11333
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
王健
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
液晶玻璃基板的化学抛光方法及化学抛光装置 [P]. 
西山智弘 ;
出口干郎 ;
丝川胜博 ;
小谷诚 ;
沟口幸一 .
中国专利 :CN1277142C ,2002-11-20
[2]
化学抛光方法 [P]. 
汪陈 ;
彭晓林 .
中国专利 :CN118206293A ,2024-06-18
[3]
碱性化学抛光方法及其采用的碱性化学抛光液 [P]. 
马迪 ;
李树白 ;
徐龙贵 ;
戈浩 .
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[4]
化学抛光方法、化学抛光设备及管腔支架 [P]. 
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高娴 ;
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[5]
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[6]
抛光液及化学抛光方法 [P]. 
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[7]
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[8]
不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法 [P]. 
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[9]
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[10]
化学抛光装置及其方法 [P]. 
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赵玉国 ;
赵永进 ;
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薛书亮 ;
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