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耐溶剂性聚合物膜
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201380015482.1
申请日
:
2013-03-19
公开(公告)号
:
CN104364005A
公开(公告)日
:
2015-02-18
发明(设计)人
:
I.斯特鲁兹恩斯卡-皮龙
I.范科勒科姆
L.范马梅勒
J.洛库菲尔
申请人
:
申请人地址
:
比利时莫策尔
IPC主分类号
:
B01D6912
IPC分类号
:
B01D6700
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
邹雪梅;梁谋
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-02-18
公开
公开
2017-08-22
授权
授权
2015-03-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101602307724 IPC(主分类):B01D 69/12 专利申请号:2013800154821 申请日:20130319
共 50 条
[1]
具有改善的耐溶剂性的聚合物涂层
[P].
F·约纳斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
F·约纳斯
;
U·古恩特曼
论文数:
0
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0
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0
U·古恩特曼
.
中国专利
:CN1962780B
,2007-05-16
[2]
一种耐溶剂的聚合物膜、制备方法及其应用
[P].
孙世鹏
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0
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0
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0
孙世鹏
;
陆天丹
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0
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陆天丹
;
王珏
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0
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0
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0
王珏
;
郭家林
论文数:
0
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0
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郭家林
;
夏前程
论文数:
0
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0
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夏前程
;
邢卫红
论文数:
0
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0
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邢卫红
.
中国专利
:CN107224884A
,2017-10-03
[3]
热稳定且耐溶剂的导电聚合物复合材料
[P].
何嘉智
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0
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0
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机构:
安比莱特
安比莱特
何嘉智
;
游利焱
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机构:
安比莱特
安比莱特
游利焱
;
梅建国
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机构:
安比莱特
安比莱特
梅建国
.
美国专利
:CN113637294B
,2024-06-07
[4]
热稳定且耐溶剂的导电聚合物复合材料
[P].
何嘉智
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何嘉智
;
游利焱
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游利焱
;
梅建国
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梅建国
.
中国专利
:CN113637294A
,2021-11-12
[5]
制备聚合物膜的方法和通过该方法制备的聚合物膜
[P].
胡金莲
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0
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机构:
纳诺多克斯科技有限公司
纳诺多克斯科技有限公司
胡金莲
;
雷乐琪
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0
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机构:
纳诺多克斯科技有限公司
纳诺多克斯科技有限公司
雷乐琪
;
石朔
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机构:
纳诺多克斯科技有限公司
纳诺多克斯科技有限公司
石朔
;
黄少华
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机构:
纳诺多克斯科技有限公司
纳诺多克斯科技有限公司
黄少华
.
中国专利
:CN119265802A
,2025-01-07
[6]
聚合物膜及其制备方法,具有聚合物膜的电解质以及电池
[P].
陈璞
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陈璞
;
卡赞姆·杰迪
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0
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卡赞姆·杰迪
;
艾舒阿克·科那洛夫
论文数:
0
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0
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0
艾舒阿克·科那洛夫
.
中国专利
:CN103665678B
,2014-03-26
[7]
聚合物膜及其制备方法,具有聚合物膜的电解质以及电池
[P].
卡赞姆·杰迪
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0
卡赞姆·杰迪
;
钊妍
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钊妍
;
陈璞
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0
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0
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0
陈璞
.
中国专利
:CN104177738B
,2014-12-03
[8]
聚合物膜及其制备方法,具有聚合物膜的电解质以及电池
[P].
陈璞
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0
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陈璞
;
卡赞姆·杰迪
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0
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0
卡赞姆·杰迪
;
钊妍
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0
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0
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钊妍
.
中国专利
:CN103214768A
,2013-07-24
[9]
阴离子-溶剂化聚合物膜
[P].
C·柏
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C·柏
;
G·克林
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0
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G·克林
.
中国专利
:CN115516014A
,2022-12-23
[10]
阴离子-溶剂化聚合物膜
[P].
C·柏
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0
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机构:
伦斯勒理工学院
伦斯勒理工学院
C·柏
;
G·克林
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机构:
伦斯勒理工学院
伦斯勒理工学院
G·克林
.
美国专利
:CN115516014B
,2024-07-30
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