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工艺腔室和半导体处理设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201811571575.3
申请日：
2018-12-21
公开(公告)号：
CN111354655A
公开(公告)日：
2020-06-30
发明(设计)人：
高印博
申请人：
申请人地址：
102200 北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;张天舒
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-30 | 公开 | 公开 |
| 2021-01-29 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/67 登记生效日:20210118 变更事项:申请人 变更前权利人:东泰高科装备科技有限公司 变更后权利人:紫石能源有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:102200 北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室 变更后权利人:102208 北京市昌平区育知东路30号院1号楼6层3单元611 |
| 2021-04-16 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20181221 |