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基片运送装置和基片运送方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110482822.8
申请日
:
2021-04-30
公开(公告)号
:
CN113644022A
公开(公告)日
:
2021-11-12
发明(设计)人
:
羽岛仁志
栃原亨
松下道明
木山秀和
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L21687
IPC分类号
:
H01L21677
H05F302
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;刘芃茜
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-12
公开
公开
共 50 条
[1]
基片的运送装置和方法
[P].
U·斯佩尔
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U·斯佩尔
;
K·维贝尔
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K·维贝尔
.
中国专利
:CN1298364A
,2001-06-06
[2]
处理模块、基片处理装置以及基片运送方法
[P].
饭塚洋二
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饭塚洋二
.
中国专利
:CN102034726A
,2011-04-27
[3]
运送机构、运送方法和运送装置
[P].
黄继然
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黄继然
;
丁兴春
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丁兴春
;
吴照栋
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吴照栋
;
石义康
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石义康
.
中国专利
:CN115535671A
,2022-12-30
[4]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
中岛常长
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
中岛常长
;
立石直也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
立石直也
;
松本惠太
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松本惠太
.
日本专利
:CN120527262A
,2025-08-22
[5]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
永田广
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永田广
;
西山淳
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西山淳
;
藤原慎
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藤原慎
;
藤原真树
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藤原真树
.
中国专利
:CN110634766A
,2019-12-31
[6]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
李承焕
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
李承焕
;
山之上友启
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山之上友启
;
广濑虎瑠
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
广濑虎瑠
;
网屋通隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
网屋通隆
;
江村智文
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
江村智文
.
日本专利
:CN121058078A
,2025-12-02
[7]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
守田聪
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守田聪
;
饱本正巳
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饱本正巳
;
森川胜洋
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森川胜洋
;
水永耕市
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水永耕市
;
岩下光秋
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岩下光秋
;
金子聪
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金子聪
.
中国专利
:CN112740367A
,2021-04-30
[8]
基片处理装置和基片处理方法
[P].
守田聪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
守田聪
;
饱本正巳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
饱本正巳
;
森川胜洋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森川胜洋
;
水永耕市
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
水永耕市
;
岩下光秋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
岩下光秋
;
金子聪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
金子聪
.
日本专利
:CN112740367B
,2024-07-26
[9]
用纸运送装置和用纸运送方法
[P].
岩仓良惠
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岩仓良惠
;
冨依稔
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冨依稔
;
村上进
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村上进
;
泉英志
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泉英志
.
中国专利
:CN1506779A
,2004-06-23
[10]
薄膜运送装置和薄膜运送方法
[P].
今吉满博
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今吉满博
;
吉方智
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吉方智
.
中国专利
:CN106167186A
,2016-11-30
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