光学系统、具备该光学系统的光学设备以及光学系统的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201680011705.0
申请日
2016-01-21
公开(公告)号
CN107250869A
公开(公告)日
2017-10-13
发明(设计)人
山下雅史
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
G02B1300
IPC分类号
G02B1111 G02B1318
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
高培培;戚传江
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 .
中国专利 :CN114761854A ,2022-07-15
[2]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
小野拓郎 ;
町田幸介 .
日本专利 :CN119856092A ,2025-04-18
[3]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 ;
三轮哲史 ;
伊藤匡辉 .
中国专利 :CN115427861A ,2022-12-02
[4]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 ;
三轮哲史 ;
伊藤匡辉 .
日本专利 :CN115427861B ,2025-11-21
[5]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
三轮哲史 .
日本专利 :CN119546995A ,2025-02-28
[6]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
真杉三郎 ;
幸岛知之 .
中国专利 :CN112119337A ,2020-12-22
[7]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
幸岛知之 ;
真杉三郎 .
中国专利 :CN112105980A ,2020-12-18
[8]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
德永京也 ;
原田壮基 ;
山口悟史 .
日本专利 :CN118215869A ,2024-06-18
[9]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
古井田启吾 .
日本专利 :CN119096177A ,2024-12-06
[10]
光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 .
中国专利 :CN114730066A ,2022-07-08