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一种浅基坑大行程升降屏
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922199401.5
申请日：
2019-12-10
公开(公告)号：
CN211574694U
公开(公告)日：
2020-09-25
发明(设计)人：
杨全明
杨同焱
申请人：
申请人地址：
310051 浙江省杭州市滨江区长河街道滨和路998号中赢国际商务大厦1702室
IPC主分类号：
F16M1302
IPC分类号：
F16M1104
F16M1118
代理机构：
浙江千克知识产权代理有限公司 33246
代理人：
裴金华
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-25 | 授权 | 授权 |