等离子体清洗设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510505460.4

申请日：

2015-08-17

公开(公告)号：

CN105080922A

公开(公告)日：

2015-11-25

发明(设计)人：

魏钰袁广才王东方

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

B08B1104

IPC分类号：

B08B700

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

柴亮;张天舒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638518762 IPC(主分类):B08B 11/04 专利申请号:2015105054604 申请日:20150817
2018-09-07	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B08B 11/04 申请公布日:20151125
2015-11-25	公开	公开

共 50 条

[1]

一种低温等离子体清洗设备 [P].

张斌 .

中国专利 :CN207746187U ,2018-08-21

[2]

低温等离子体清洗设备 [P].

程方 ;

程宇宸 ;

郭勇 .

中国专利 :CN203085491U ,2013-07-24

[3]

远程等离子体清洗设备及清洗方法 [P].

黄嘉斌 ;

邓新新 ;

赵增超 ;

李明 ;

杨彬 ;

王随心 ;

成秋云 .

中国专利 :CN118904829A ,2024-11-08

[4]

等离子体清洗器 [P].

王同成 ;

庄李施 ;

张楠林 .

中国专利 :CN306648184S ,2021-06-29

[5]

等离子体产生装置及等离子体加工设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN222776358U ,2025-04-18

[6]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26

[7]

微波等离子体发生设备和等离子体炬 [P].

Z·扎科泽斯基 ;

M·穆伊桑 ;

D·介朗 ;

J-C·罗斯坦 .

中国专利 :CN101803471B ,2010-08-11

[8]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400856A ,2024-07-26

[9]

一种等离子体清洗装置 [P].

张斌 .

中国专利 :CN208712420U ,2019-04-09

[10]

等离子体处理设备 [P].

数见秀之 ;

手束勉 ;

西尾良司 ;

荒井雅嗣 ;

吉冈健 ;

坪根恒彦 ;

土居昭 ;

枝村学 ;

前田贤治 ;

金井三郎 .

中国专利 :CN1185030A ,1998-06-17

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