具有阴离子表面活性剂、两性表面活性剂及阳离子聚合物的洗发剂组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN02820185.X
申请日
2002-10-18
公开(公告)号
CN1568174A
公开(公告)日
2005-01-19
发明(设计)人
马修·R·克利普森 迈克尔·P·迪德里克 埃里克·S·约翰逊 尼古拉斯·W·吉尔里 道格拉斯·A·罗伊斯 罗伯特·L·韦尔斯
申请人
申请人地址
美国俄亥俄州辛辛那提
IPC主分类号
A61K7075
IPC分类号
代理机构
北京市柳沈律师事务所
代理人
贾静环;宋莉
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
阴离子表面活性剂组合物 [P]. 
袁志武 ;
罗芳 ;
王宝 ;
单量红 .
中国专利 :CN108403463B ,2018-08-17
[2]
包含至少两种不同的阴离子表面活性剂、非离子和两性表面活性剂以及阳离子或两性聚合物的组合物 [P]. 
V·勒邵村 ;
S·麦卢格 ;
E·马松诺 .
中国专利 :CN112312882A ,2021-02-02
[3]
阴离子表面活性剂 [P]. 
G.阿罕塞特 ;
S.龙 ;
B.格拉迪 ;
J.哈维尔 ;
于光哲 .
中国专利 :CN108026489B ,2018-05-11
[4]
包含阳离子聚合物和阴离子表面活性剂的织物护理组合物 [P]. 
亚历山德罗三世·科罗娜 ;
布赖恩·W·埃弗琳厄姆 ;
盖尔·玛丽·弗兰肯巴赫 ;
拉赞·凯沙夫·帕南迪科尔 ;
马克·罗伯特·西维奇 ;
贝斯·安·舒伯特 ;
玛丽奥·埃尔门·特朗布莱 ;
凯丽·安德鲁·维特尔 ;
格雷戈里·托马斯·万宁 ;
杰弗里·斯科特·韦弗 .
中国专利 :CN102459550A ,2012-05-16
[5]
包含至少一种阴离子表面活性剂、至少两种特定的非离子表面活性剂、至少一种两性表面活性剂以及至少一种特定的阳离子聚合物的组合物 [P]. 
埃丝特勒·马托尼奥 ;
玛丽-弗洛伦斯·达拉斯 ;
埃马努埃莱·利本-希普利特 ;
亨利·萨曼 ;
格雷戈里·普洛斯 .
中国专利 :CN108348428A ,2018-07-31
[6]
具有基于氨基酸的阴离子表面活性剂和阳离子聚合物的致密型洗发剂组合物 [P]. 
宋小清 ;
I·C·康斯坦丁尼迪斯 .
中国专利 :CN111278418A ,2020-06-12
[7]
阴离子表面活性剂粉粒 [P]. 
松元树 ;
野元秀利 ;
三好一仁 .
中国专利 :CN1817432A ,2006-08-16
[8]
基于阴离子表面活性剂、两性表面活性剂和烷基葡糖苷的个人护理组合物 [P]. 
邓妍君 ;
曾玉燕 ;
黄东尧 ;
陈昌龙 ;
沈宏伟 .
美国专利 :CN117940108A ,2024-04-26
[9]
含有皂、阴离子表面活性剂及两性表面活性剂、低温稳定性改善的液体组合物 [P]. 
M·阿赖 ;
Y·伊瓦默托 ;
M·科巴雅施 .
中国专利 :CN1282576A ,2001-02-07
[10]
包含至少两种阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂以及至少一种去头屑剂的组合物 [P]. 
E.马同诺 ;
M-F.达拉斯 ;
H.萨曼 ;
G.普洛斯 .
中国专利 :CN110087627B ,2019-08-02