化学机械抛光设备和化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611066947.8

申请日：

2016-11-29

公开(公告)号：

CN108115553A

公开(公告)日：

2018-06-05

发明(设计)人：

唐强

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

B24B3720

IPC分类号：

B24B3734 B24B53017 B24B5702

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

曲瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-05	公开	公开
2019-11-29	授权	授权
2018-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/20 申请日:20161129

共 50 条

[1]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[2]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[3]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[4]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[5]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[6]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[7]

化学机械抛光设备 [P].

路新春 ;

何永勇 ;

沈攀 ;

许振杰 ;

王同庆 ;

裴召辉 ;

徐海滨 ;

张莉瑶 ;

郭振宇 ;

雒建斌 .

中国专利 :CN103252705A ,2013-08-21

[8]

化学机械抛光设备 [P].

裴城焄 .

中国专利 :CN101238552A ,2008-08-06

[9]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[10]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

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